基片偏压对MCECR溅射硬碳膜特性的影响

采用封闭式电子回旋共振(MCECR)氩等离子体溅射碳靶的方法在硅片上沉积了高质量的硬碳膜,膜层厚度约40nm. 使用X射线光电子能谱仪(XPS)和高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)分析了碳膜结构,并用POD摩擦磨损仪测试了碳膜的摩擦磨损特性,用纳米压入仪测试了碳膜的纳米硬度.详细研究了基片偏压对碳膜的结构、摩擦磨损特性以及纳米硬度的影响,得到了最佳基片偏压.

采用MCECR等离子体溅射方法制备硬碳膜

采用封闭式电子回旋共振(M CECR)等离子体溅射的方法在硅(100)基片上沉积了高质量的硬碳纳米微晶薄膜,膜层厚度约40 nm,采用氩等离子体溅射碳靶。薄膜的键结构采用X射线光电子能谱仪(XPS)分析,纳米结构采用高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)分析。本文研究了基片偏压对薄膜的纳米结构、摩擦特性(摩擦系数及磨损率)以及薄膜的纳米硬度的影响。摩擦特性采用POD摩擦磨损仪测试,纳米硬度采用纳米压入仪测试。

聚合物热解制备硬质碳膜及其摩擦学性能表征

合成了一种新型碳基骨架聚合物—聚碳苯,将其溶解于有机溶剂中,通过旋涂法涂覆于耐热钢表面,在常压、惰性气体保护下,经过高温热处理得到碳薄膜。利用X射线光电子能谱和原子力显微镜考察了热处理温度对碳膜的微观结构和表面形貌的影响,同时利用纳米压入仪和球盘摩擦试验机考察了不同温度制备的薄膜的纳米硬度和摩擦学特性。结果表明:热处理温度为600～1000 ℃可以得到具有sp3 C和sp2 C混合相的碳薄膜,随着热处理温度的升高,薄膜中sp2 C含量增加,均方根粗糙度(RMS)增加;热处理温度为800 ℃时制备的碳薄膜具有最高的纳米硬度;在室温干摩擦条件下,当热处理温度从600 ℃提高到700 ℃时,薄膜的摩擦因数有明显的降低,随着温度的进一步升高,摩擦因数只有轻微的降低;薄膜的耐磨寿命随着热处理温度的提高而逐渐增加。

钛表面涂覆硬质碳膜的性能研究

以高纯甲烷 (99.9% )以原料气体 ,采用等离子增强化学气相沉积法将碳镀于金属钛表面获取的硬质碳膜 (i-C) ,测定其理化性能。将其与纯钛、医用不锈钢、纯铜 4种材料植入小鼠体内 ,测定对机体NK细胞活性和IL 2产生能力的影响。通过体外细胞培养法 ,计算了细胞相对增殖率 ,评价了毒性级 。

硬质碳膜涂层PET啤酒容器

中国啤酒的消费量急速增长,预计21世纪将超过美国成为世界第一的啤酒生产国。为此,啤酒酿造商必须与各方面相配合,如使用合适的包装容器。近年来,包装容器的发展一日千里,如回收玻璃瓶进行氧化锡加工技术,使瓶身重量减少,以及硬质碳膜涂层(Diamond Like Carbon,即DLC)的开发应用。 瓶(铁罐)灌装啤酒经过长期储存,啤酒内的成分会出现氧化作用,