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稀释气体流量对低压化学气相沉积硼掺碳涂层的影响
被引量:
1
1
作者
涂建勇
刘永胜
+4 位作者
成来飞
张立同
杨文彬
徐永东
张伟华
《固体火箭技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第4期397-402,共6页
以BCl3-C3H6-H2为气相反应体系,采用低压化学气相沉积制备硼掺碳涂层。研究了Ar气稀释流量对硼掺碳涂层沉积速度、形貌、组成和键合状态的影响。结果表明,不同稀释气体流量作用下,硼掺碳的沉积速度没有明显变化,产物形貌由致密向层状转...
以BCl3-C3H6-H2为气相反应体系,采用低压化学气相沉积制备硼掺碳涂层。研究了Ar气稀释流量对硼掺碳涂层沉积速度、形貌、组成和键合状态的影响。结果表明,不同稀释气体流量作用下,硼掺碳的沉积速度没有明显变化,产物形貌由致密向层状转变,硼元素含量稍有减少而碳元素含量稍有增加。沉积产物中B元素的键合方式以B-sub-C和BC2O为主。结合化学反应和气体扩散,探讨了稀释气体的作用机制,表明PyC形成反应的主导作用导致稀释气体流量对沉积速度作用不明显,而BCl3和C3H6在Ar气中扩散系数的差异导致产物形貌和组成发生变化。
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关键词
硼掺碳涂层
化学气相沉积(CVD)
稀释气体
形貌组成
下载PDF
职称材料
题名
稀释气体流量对低压化学气相沉积硼掺碳涂层的影响
被引量:
1
1
作者
涂建勇
刘永胜
成来飞
张立同
杨文彬
徐永东
张伟华
机构
西北工业大学超高温结构复合材料国防科技重点实验室
出处
《固体火箭技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第4期397-402,共6页
基金
国家自然科学重点基金(90405015)
国家杰出青年基金(50425028)
+3 种基金
长江学者和创新团队发展计划资助项目
西北工业大学博士论文创新基金(CX200505)
国家自然科学基金面上项目(50672076)
国家自然科学基金主任基金(50642039)
文摘
以BCl3-C3H6-H2为气相反应体系,采用低压化学气相沉积制备硼掺碳涂层。研究了Ar气稀释流量对硼掺碳涂层沉积速度、形貌、组成和键合状态的影响。结果表明,不同稀释气体流量作用下,硼掺碳的沉积速度没有明显变化,产物形貌由致密向层状转变,硼元素含量稍有减少而碳元素含量稍有增加。沉积产物中B元素的键合方式以B-sub-C和BC2O为主。结合化学反应和气体扩散,探讨了稀释气体的作用机制,表明PyC形成反应的主导作用导致稀释气体流量对沉积速度作用不明显,而BCl3和C3H6在Ar气中扩散系数的差异导致产物形貌和组成发生变化。
关键词
硼掺碳涂层
化学气相沉积(CVD)
稀释气体
形貌组成
Keywords
boron-doped carbon coating
chemical vapor deposition (CVD)
dilution gas
morphology and composition
分类号
TB332 [一般工业技术—材料科学与工程]
TQ174.758.2 [化学工程—陶瓷工业]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
稀释气体流量对低压化学气相沉积硼掺碳涂层的影响
涂建勇
刘永胜
成来飞
张立同
杨文彬
徐永东
张伟华
《固体火箭技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
1
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职称材料
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