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净化厂房中气相分子沾污(AMC)的来源和危害 被引量:2
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作者 潘文伟 蔡蕾 《电子与封装》 2012年第12期44-48,共5页
越来越多的研究发现,在半导体圆片加工净化厂房中,除了存在空气悬浮颗粒沾污外,还存在以气相或蒸汽形式存在的分子污染物(Airborne Molecular Contaminants,AMC)。随着特征尺寸(CD)的不断缩小,AMC将会越来越严重地影响圆片加工质量和成... 越来越多的研究发现,在半导体圆片加工净化厂房中,除了存在空气悬浮颗粒沾污外,还存在以气相或蒸汽形式存在的分子污染物(Airborne Molecular Contaminants,AMC)。随着特征尺寸(CD)的不断缩小,AMC将会越来越严重地影响圆片加工质量和成品率,并会影响净化厂房内工作人员的身体健康。文章介绍了AMC的分类、来源、危害性、控制标准和方法,希望以此引起人们对AMC的重视,并采取相应的控制措施。 展开更多
关键词 净化厂房 空气中分子污染物 酸性分子污染物 碱性分子污染物 可凝结的分子有机化合物 分子掺杂物
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