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利用碱氨蚀刻废液制造胆矾 被引量:9
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作者 郑淑玉 汤清家 《化工环保》 CAS CSCD 北大核心 1997年第1期45-47,共3页
关键词 废水处理 蚀刻废液 胆矾 制造
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利用硫酸亚铁净化碱氨蚀刻废水 被引量:10
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作者 吴昊 《沈阳大学学报》 CAS 2000年第4期39-42,共4页
利用硫酸亚铁净化碱氨蚀刻废水,使铜离子含量低于1mg/L,从而达到可以直接排放的目的.
关键词 蚀刻废水 硫酸亚铁 PAM 废水净化 铜离子 洗涤废水
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利用废蚀刻液生产碱式氯化铜产品铜含量的影响因素 被引量:3
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作者 赖少弼 陈鹏 朱少杰 《广东化工》 CAS 2013年第3期35-36,共2页
文章通过实验,利用线路板废酸碱蚀刻液,考察了pH、温度、废酸性蚀刻液(氯化铜原料)的铜含量、等三个因素对碱式氯化铜产品铜含量的影响及规律,综合各方面考虑,择出了最优生产条件:pH 4.80~4.90;温度为60~62℃;氯化铜的铜含量为90~100... 文章通过实验,利用线路板废酸碱蚀刻液,考察了pH、温度、废酸性蚀刻液(氯化铜原料)的铜含量、等三个因素对碱式氯化铜产品铜含量的影响及规律,综合各方面考虑,择出了最优生产条件:pH 4.80~4.90;温度为60~62℃;氯化铜的铜含量为90~100 g/L。 展开更多
关键词 式氯化铜 影响因素 废酸碱蚀刻 晶体
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碱氨蚀刻废液处理方法 被引量:2
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作者 朱龙 李亚峰 张秀娟 《沈阳黄金学院学报》 1997年第1期44-48,共5页
报告了碱氨蚀刻废液处理方法的试验研究.包括碱法回收氢氧化铜,酸法回收胆矾和电解沉积法回收金属铜等三种方法.研究结果表明,处理方法简单,效果较好,经济效益较高.
关键词 蚀刻废液 废液 处理 回收
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中空TiO_(2)微球的可控制备及在隔热涂料中的应用
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作者 严富彬 唐波 +3 位作者 陆春旭 王蒸 刘可 问昊 《涂料工业》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期31-36,46,共7页
为满足隔热涂料拥有高近红外反射率的同时还具备较低的导热性能的需求,研发了一种优秀的隔热填料:中空TiO_(2)微球。中空TiO_(2)微球空腔结构可储存大量空气,使得导热系数较低,同时壳层结构对红外线具有较强反射能力,是理想材料之一。... 为满足隔热涂料拥有高近红外反射率的同时还具备较低的导热性能的需求,研发了一种优秀的隔热填料:中空TiO_(2)微球。中空TiO_(2)微球空腔结构可储存大量空气,使得导热系数较低,同时壳层结构对红外线具有较强反射能力,是理想材料之一。以自制粒径约340 nm单分散SiO_(2)微球为硬模板,采用牺牲模板法在最优条件下成功制备粒径约510 nm,壳厚120 nm,空腔尺寸260 nm左右,分散较均匀的中空TiO_(2)微球。探究氨水浓度、反应时间对SiO_(2)微球粒径影响,得出适宜反应时间为2 h,且氨水浓度在一定范围内增大,SiO_(2)粒径随之增大。研究了水热时间、温度、蚀刻液种类对中空TiO_(2)微球形貌的影响,其中50~60℃NaOH溶液蚀刻1 h最适宜。测试了中空TiO_(2)微球在300~2500 nm的反射率,400~1350 nm内反射率维持在90%。用中空TiO_(2)微球制备隔热涂料,隔热性能比用钛白粉、空心玻璃微珠制得的隔热涂料好,隔热温差达10℃左右。 展开更多
关键词 中空TiO_(2)微球 牺牲硬模板法 水热碱蚀刻 隔热涂料
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通过化学蚀刻提高Bi_2WO_6/Bi_2MoO_6光催化活性的机理探析
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作者 赵晨光 刘迅航 《哈尔滨师范大学自然科学学报》 CAS 2019年第1期69-77,共9页
Bi_2WO_6/Bi_2MoO_6复合半导体已经能够利用无模板一步水热法得到,并通过简单的化学蚀刻方法处理实现其催化性能的提升,使用氢氧化钠作为蚀刻剂.光催化测试表明碱蚀刻催化剂的降解率提升了约60%,捕获剂实验为催化机理的分析提供了有力... Bi_2WO_6/Bi_2MoO_6复合半导体已经能够利用无模板一步水热法得到,并通过简单的化学蚀刻方法处理实现其催化性能的提升,使用氢氧化钠作为蚀刻剂.光催化测试表明碱蚀刻催化剂的降解率提升了约60%,捕获剂实验为催化机理的分析提供了有力的证据,电子顺子共振(EPR)直接证明蚀刻使得样品中形成大量的氧空位;阻抗测试表明该样品具有更高的电子转移活性.结合上述结论对蚀刻催化剂性能提升的机理做出了以下分析:复合催化剂中Bi_2WO_6和Bi_2MoO_6相互匹配的能带结构使得光生电子的转移和传输极为顺利,碱蚀刻使催化剂微观结构改变,并在Bi_2WO_6和Bi_2MoO_6表面制造大量氧穴位,光催化过程中氧空位有效捕获水分子中的氧原子;后续电子参与的两步还原反应将溶液中的溶解氧转化成·OH.上述分析结果为光催化反应中催化剂催化性能的提高做出实质贡献. 展开更多
关键词 Bi2WO6/Bi2MoO6复合催化剂 一步水热法 碱蚀刻 光催化降解 罗丹明B
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Effect of KOH treatment on structural and photovoltaic properties of ZnO nanorod arrays 被引量:2
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作者 周艺 李荡 +3 位作者 黄燕 何文红 肖斌 李宏 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第11期2736-2741,共6页
ZnO nanorod arrays (NRs) were synthesized on the fluorine-doped SnO2 transparent conductive glass (FTO) by a simple chemical bath deposition (CBD) method combined with alkali-etched method in potassium hydroxide... ZnO nanorod arrays (NRs) were synthesized on the fluorine-doped SnO2 transparent conductive glass (FTO) by a simple chemical bath deposition (CBD) method combined with alkali-etched method in potassium hydroxide (KOH) solution. X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM) and current-voltage (I-V) curve were used to characterize the structure, morphologies and optoelectronic properties. The results demonstrated that ZnO NRs had wurtzite structures, the morphologies and photovoltaic properties of ZnO NRs were closely related to the concentration of KOH and etching time, well-aligned and uniformly distributed ZnO NRs were obtained after etching with 0.1 mol/L KOH for 1 h. ZnO NRs treated by KOH had been proved to have superior photovoltaic properties compared with high density ZnO NRs. When using ZnO NRs etched with 0.1 mol/L KOH for 1 h as the anode of solar cell, the conversion efficiency, short circuit current and open circuit voltage, compared with the unetched ZnO NRs, increased by 0.71%, 2.79 mA and 0.03 V, respectively. 展开更多
关键词 ZnO nanorod arrays SnO2 transparent conductive glass alkali etching structural properties photovoltaic properties solar cells
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高浓度含铜废水处理方法的研究 被引量:38
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作者 郭仁东 吴昊 张晓颖 《当代化工》 CAS 2004年第5期280-281,310,共3页
采用电解法处理印刷电路板生产过程中产生的碱氨蚀刻废水 ,考察极距、电解时间、电流密度对去除率的影响。研究结果表明 ,电解法能够有效地去除碱氨蚀刻废水中的铜离子 ,并可以回收金属铜。在极距为 2 8mm ,电流密度在 10 0~ 30 0A/m-2... 采用电解法处理印刷电路板生产过程中产生的碱氨蚀刻废水 ,考察极距、电解时间、电流密度对去除率的影响。研究结果表明 ,电解法能够有效地去除碱氨蚀刻废水中的铜离子 ,并可以回收金属铜。在极距为 2 8mm ,电流密度在 10 0~ 30 0A/m-2 时 ,铜离子的去除率在 99%以上。 展开更多
关键词 蚀刻废水 电解法 极距
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非晶态中空ZnSnO_3立方体的制备及其电化学性能 被引量:1
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作者 王艳坤 张建民 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第10期1421-1427,共7页
采用碱蚀刻-热解法制备了无定形中空ZnSnO_3立方体,并利用X射线衍射、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、热重分析、N_2吸附-脱附曲线、循环伏安和恒流充放电技术对样品的结构、形貌及电化学性能进行表征。结果表明:所制备的ZnSnO_3呈边... 采用碱蚀刻-热解法制备了无定形中空ZnSnO_3立方体,并利用X射线衍射、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、热重分析、N_2吸附-脱附曲线、循环伏安和恒流充放电技术对样品的结构、形貌及电化学性能进行表征。结果表明:所制备的ZnSnO_3呈边长约为1μm的无定型中空立方体。作为锂电池负极材料,在100 m A/g电流密度下,首次放电容量高达1 591 m A·h/g,50次循环后放电容量保持在305 m A·h/g。无定形中空ZnSnO_3立方体良好的电化学性能可归因于无定形态及有效缓冲了锂离子嵌入-脱嵌过程引起的体积变化的中空结构。 展开更多
关键词 偏锡酸锌 中空结构 碱蚀刻 负极材料 锂离子电池
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Experiment study on micro-structure on different crystallographic planes of mc-Si etched in alkaline solution 被引量:1
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作者 WANG KunXia FENG ShiMeng +4 位作者 XU HuaTian TIAN JiaTong YANG ShuQuan HUANG JianHua PEI Jun 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2012年第6期1509-1514,共6页
The investigation of multi-crystalline silicon (mc-Si) surface etching technology is a key point in solar cell research. In this paper, mc-Si surface was etched in the common alkaline solution modified by an additiv... The investigation of multi-crystalline silicon (mc-Si) surface etching technology is a key point in solar cell research. In this paper, mc-Si surface was etched in the common alkaline solution modified by an additive for 20 minutes at 78-80~C. Samples' surface morphology was observed by scanning electron microscope (SEM). It is firstly found that the etched mc-Si surface has the uniform distribution of trap pits although the morphologies of trap pits are slightly different on different crystallographic planes. Si (100) plane was covered with many small Si-mountaln ranges or long V-shape channels arranged in a crisscross pat- tern. For (110) plane and (111) plane, they were full of a lot of triangle pit-traps (or quadrilateral holes) and twisted earthworm trap pits, respectively. The measured reflectance of the sample was 20.5% at wavelength range of 400--900 nm. These results illustrate that alkaline solution modified by an additive can effectively etch out trap pits with a good trapping light effect on mc-Si surfaces. This method should be very valuable for mc-Si solar cells. 展开更多
关键词 mc-Si wafers chemical etching surface structure trapping effect reflectance
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