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碲镉汞器件的低温金丝球焊接 被引量:2
1
作者 陈爱萍 许生龙 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 1990年第2期40-43,共4页
本文叙述在低温<80℃条件下,实现一次性焊接的同时,研究了焊点的外形,焊接的牢固性等问题,并就导电性能与热压焊进行了比较。
关键词 碲镉汞器件 金丝球 焊接
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MS界面输运特性对碲镉汞光伏器件I-V特性的影响 被引量:2
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作者 胡晓宁 李言谨 方家熊 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期165-168,共4页
根据金属 -碲镉汞接触的基本电流 -电压关系 ,深入讨论了金属 -半导体 (MS)接触界面输运特性对碲镉汞光伏器件 I- V特性的影响 ,并对实际器件的测量数据进行了分析比较 .
关键词 I-V特性 金属-接触 光伏器件 红外焦平面器件 界面 输运特性
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碲镉汞光伏器件的电极界面参数 被引量:1
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作者 胡晓宁 李言谨 方家熊 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第11期1439-1443,共5页
利用热场发射理论和数值计算方法 ,分析了碲镉汞光伏器件的电流 -电压特性 ,提取了金属 -半导体 (MS)界面参数 ,并对这些参数进行了讨论 .结果表明 ,Sn/Au金属膜 -碲镉汞薄膜 PN器件的电极界面的势垒高度锁定在“Bardeen”限 ,界面密度... 利用热场发射理论和数值计算方法 ,分析了碲镉汞光伏器件的电流 -电压特性 ,提取了金属 -半导体 (MS)界面参数 ,并对这些参数进行了讨论 .结果表明 ,Sn/Au金属膜 -碲镉汞薄膜 PN器件的电极界面的势垒高度锁定在“Bardeen”限 ,界面密度比介质膜 展开更多
关键词 光伏器件 电极界面参数 红外探测器
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变磁场I-V法对碲镉汞光伏器件少子扩散特性的研究 被引量:1
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作者 贾嘉 陈新禹 +1 位作者 李向阳 龚海梅 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期140-142,共3页
零偏压电阻 面积乘积(R0A)和反向饱和电流密度J0 是决定光电二极管性能的重要参数.提出了一种对碲镉汞(Hg1-xCdxTe)光伏器件的少子扩散特性进行研究的有效方法.利用变磁场下的电流 电压(I V)测试,得到了组分x在 0.5与 0.6之间的器件R0A... 零偏压电阻 面积乘积(R0A)和反向饱和电流密度J0 是决定光电二极管性能的重要参数.提出了一种对碲镉汞(Hg1-xCdxTe)光伏器件的少子扩散特性进行研究的有效方法.利用变磁场下的电流 电压(I V)测试,得到了组分x在 0.5与 0.6之间的器件R0A和J0 随磁场强度B变化的函数关系.由实验结果估算得到了室温工作的短波红外(SWIR)碲镉汞光伏器件的少子扩散长度.其数值与用激光诱导电流(LBIC)方法得到的相一致. 展开更多
关键词 光伏器件 扩散特性 V法 少子扩散长度 电流-电压 光电二极管 有效方法 电流密度 激光诱导 短波红外 函数关系 磁场强度
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离子束诱导转型成结的碲镉汞光伏器件 被引量:5
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作者 贾嘉 《红外》 CAS 2003年第8期1-9,共9页
离子束诱导转型成结技术是一种可以获得高质量p-n结的新型成结方法,它克服了传统碲镉汞(MCT)离子注入成结工艺中钝化层有损伤的弊病,且工艺相对简单,有希望成为碲镉汞红外焦平面器件的新一代成结技术。本文介绍了以环孔工艺和氢化技术... 离子束诱导转型成结技术是一种可以获得高质量p-n结的新型成结方法,它克服了传统碲镉汞(MCT)离子注入成结工艺中钝化层有损伤的弊病,且工艺相对简单,有希望成为碲镉汞红外焦平面器件的新一代成结技术。本文介绍了以环孔工艺和氢化技术为代表的常规离子束刻蚀(Ion Beam Milling)及以H_2/CH_4为代表的反应离子束刻蚀(Reactive Ion Etching)两大类离子束诱导转型(Plasma induced type conversion)成结技术的基本原理、特点及其工艺过程。并以反应离子束刻蚀(RIE)为例,列举了现有报道的典型器件性能。同时还把离子束诱导与离子注入工艺在各方面作了比较。 展开更多
关键词 离子束诱导转型成结 光伏器件 红外探测器 红外焦平面器件 环孔工艺 氢化技术 离子束刻蚀
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γ辐照导致中波碲镉汞光伏器件暗电流退化的机理研究 被引量:2
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作者 王志铭 周东 +6 位作者 郭旗(指导) 李豫东 文林 马林东 张翔 蔡毓龙 刘炳凯 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2019年第9期192-199,共8页
针对红外探测器在空间应用中受到高能粒子辐照后暗电流退化的问题,开展γ射线对中波碲镉汞(HgCdTe)光伏器件暗电流影响的研究。在室温和77 K温度下,利用60Co-γ射线对HgCdTe器件进行辐照试验,辐照试验结束后对低温辐照器件进行77 K低温... 针对红外探测器在空间应用中受到高能粒子辐照后暗电流退化的问题,开展γ射线对中波碲镉汞(HgCdTe)光伏器件暗电流影响的研究。在室温和77 K温度下,利用60Co-γ射线对HgCdTe器件进行辐照试验,辐照试验结束后对低温辐照器件进行77 K低温退火和室温退火。通过比较γ辐照前后和退火后器件的I-V特性、R-V特性和零偏动态电阻R0参数,分析了γ辐照对HgCdTe器件暗电流的影响机制。试验结果表明:在总剂量为7 Mrad(Si)照条件下,器件暗电流未出现明显的退化;在77 K温度辐照条件下,器件暗电流随着总剂量的增加而增加,且暗电流退化幅度与辐照过程中的偏置有关。研究表明暗电流的退化源于γ辐照在器件中造成电离损伤,导致器件HgCdTe化层中的界面态和空穴陷阱电荷密度增加。 展开更多
关键词 (HgCdTe)光伏器件 红外探测器 辐射效应 γ射线 暗电流
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碲镉汞红外光电探测器局域场表征研究进展(特邀) 被引量:1
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作者 刘书宁 唐倩莹 李庆 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2022年第7期36-48,共13页
碲镉汞材料(HgCdTe)是第三代红外探测系统中使用的重要探测材料,其发展水平能基本反映当前红外探测器最优性能指标。近年来,天文、遥感和民用设备对探测器性能提出了更高的要求,这对HgCdTe红外探测器的设计和制备提出了新的挑战。HgCdT... 碲镉汞材料(HgCdTe)是第三代红外探测系统中使用的重要探测材料,其发展水平能基本反映当前红外探测器最优性能指标。近年来,天文、遥感和民用设备对探测器性能提出了更高的要求,这对HgCdTe红外探测器的设计和制备提出了新的挑战。HgCdTe红外探测器更精细的设计和加工技术为提高HgCdTe红外探测器性能提供解决思路。抑制器件的有害局域场、调控器件的有益局域场可以实现器件性能进一步的突破。但是,如何对HgCdTe光电器件局域场进行表征与分析,澄清HgCdTe光电器件中局域场相关的噪声及暗电流起源,是推动器件性能突破需解决的重要关键科学与技术问题。文中将总结HgCdTe红外光电探测器局域场表征与分析的研究进展,为新一代HgCdTe红外光电探测器发展提供基础支撑。 展开更多
关键词 碲镉汞器件 微区光电流扫描技术 局域场 暗电流
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碲镉汞纳米材料与器件的LBIC检测技术
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作者 贾嘉 龚海梅 李向阳 《云南大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2005年第S1期209-215,共7页
介绍一种可用于红外碲镉汞(HgCdTe)材料与器件研究的高分辨率、无损伤光学检测方法——激光诱导电流(LBIC)技术.该技术可以描绘出碲锅汞薄膜材料中具有电活性的缺陷分布图,也可以无须为列阵中的每个像元制作电极就用于探测器像元的检测... 介绍一种可用于红外碲镉汞(HgCdTe)材料与器件研究的高分辨率、无损伤光学检测方法——激光诱导电流(LBIC)技术.该技术可以描绘出碲锅汞薄膜材料中具有电活性的缺陷分布图,也可以无须为列阵中的每个像元制作电极就用于探测器像元的检测.利用得到的数据可以推算出p-n结的扩散长度、结深和探测器的品质因子(R0A)及均匀性等许多参数.给出了碲镉汞一些典型参量的LBIC理论与实验结果,说明LBIC检测技术对碲镉汞材料与器件的特性表征起到了十分重要的作用. 展开更多
关键词 LBIC技术 材料与器件 纳米级
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制备HgCdTe红外焦平面器件的离子注入技术 被引量:1
9
作者 王庆学 《红外》 CAS 2003年第12期14-23,共10页
1 前言 碲镉汞光伏型红外焦平面列阵器件(IRFPAs)是以外延材料为基础发展起来的,其基本工作原理利用了p-n结的光电效应.
关键词 离子注入技术 光伏型红外焦平面器件 光电效应 PN结 掺杂技术 液相外延 分子束外延 X衍射表征
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第二届全国先进焦平面技术研讨会论文摘要
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《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2006年第11期1079-1086,共8页
关键词 上海技术物理研究所 中国科学院 中科院 红外焦平面探测器 碲镉汞器件 焦平面技术 非均匀性校正 焦平面组件 非平衡载流子寿命 少子寿命 AlGaN 响应率 摘要 红外物理 研讨会
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n-HgCdTe表面积累层中子带电子迁移率的研究 被引量:2
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作者 桂永胜 褚君浩 +2 位作者 蔡毅 郑国珍 汤定元 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1998年第8期1354-1360,共7页
利用定量迁移率谱技术,通过研究霍尔系数和电阻率与磁场强度的关系,获得了nHgCdTe器件表面积累层中子带电子的浓度和迁移率随温度的变化趋势.由定量迁移率谱得到的结果与ShubnikovdeHas测量结果以及理论计... 利用定量迁移率谱技术,通过研究霍尔系数和电阻率与磁场强度的关系,获得了nHgCdTe器件表面积累层中子带电子的浓度和迁移率随温度的变化趋势.由定量迁移率谱得到的结果与ShubnikovdeHas测量结果以及理论计算的结果非常符合. 展开更多
关键词 电子迁移率 中子带 器件 表面积累层
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