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SiC材料升华法生长机理 被引量:1
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作者 潘晖 佟丽英 曹全喜 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2002年第12期17-19,共3页
讨论了SiC晶体升华法生长机理。从SiC晶体生长过程中的化学反应,热传输,物质传输以及缺陷的形成等方面进行了探讨。分析了化学计量比和保护气体压力对SiC单晶生长及其缺陷形成的影响。通过分析得到,要获得高质量的SiC单晶,必须有效地控... 讨论了SiC晶体升华法生长机理。从SiC晶体生长过程中的化学反应,热传输,物质传输以及缺陷的形成等方面进行了探讨。分析了化学计量比和保护气体压力对SiC单晶生长及其缺陷形成的影响。通过分析得到,要获得高质量的SiC单晶,必须有效地控制各种工艺参数。 展开更多
关键词 碳化硅升华法生长 热传输 物质传输 缺陷 化学计量化 保护气体压力
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