溅射气压对碳硅氧薄膜透过率及光学带隙的影响

采用射频磁控溅射技术在玻璃基底和单晶硅片(100)上制备了碳硅氧(Si OC)薄膜,通过扫描电镜、X射线衍射、拉曼光谱、X射线光电子能谱及紫外可见透射光谱等技术手段对其进行了分析,研究了在不同溅射气压下所制备薄膜的组分、透过率及光学带隙。结果表明:随着溅射气压的增大,薄膜内部sp^3键含量、透过率及光学带隙均随之增大,sp^3键及其形成的宽带隙σ键对薄膜光学带隙有着较大影响。在溅射气压为3.0 Pa的条件下,薄膜光学带隙为2.67 e V。

自支撑硅氧碳纳米镶嵌复合薄膜基板的制备及导热性能研究

利用先驱体熔融纺膜法,经熔融纺膜、氧化交联及900-1200 ℃不同裂解温度制得系列自支撑硅氧碳纳米镶嵌复合薄膜.利用红外光谱（FT-IR）分析氧化交联后及高温裂解薄膜的结构变化,通过X 射线衍射（XRD）、拉曼光谱（Raman）与扫描电镜（SEM）对薄膜微观结构及形貌进行分析,采用电阻测试仪和激光热导仪对其进行电阻率与热导率进行表征.结果表明,硅氧碳纳米镶嵌复合薄膜具有较好的绝缘性能与热传导能力,随着裂解温度升高,薄膜电阻率减小,热导率大幅度增大.1200 ℃制备的样品具有合适电阻率和最佳热导率（46.8 W/（m·K））,薄膜以非晶态相SiOxCy 和游离碳为基体,细小等轴β-SiC晶弥散分布在基体中,其表面平整度高通过丝网印刷可获得两条平行的均匀致密高温银浆电路层,有望大规模应用于大功率LED封装散热基板.

基于透射光谱确定硅碳氧薄膜的光学常数

硅碳氧薄膜是一种含有Si、C和O三种元素的玻璃状化合物材料,同时拥有碳化硅薄膜及氧化硅薄膜多种优异的特性,如热稳定性好、能带宽、折射率大、硬度高和热导率高等,是一种具有潜在应用价值的新颖光学薄膜.基于硅碳氧薄膜的紫外/可见/近红外透射光谱,采用Swanepoel极值包络线法,结合WDD色散模型,建立了一套精确、方便并适合于计算硅碳氧薄膜光学常数的方法.方便地获得了硅碳氧薄膜折射率、厚度等光学常数.并将厚度计算结果与实际测量值进行了比较.结果表明,试验中研究硅碳氧薄膜光学常数所采用的方法是合理的,能够准确地获得硅碳氧薄膜的折射率及厚度等光学常数.

硅氧碳纳米镶嵌复合薄膜的氧空位形成与散热基板封装

自支撑硅氧碳纳米镶嵌复合薄膜具有细小等轴β-SiC纳米晶弥散分布在非晶态相SiO_xC_y和游离碳基体的复合结构。利用电子顺磁共振谱(EPR)仪对900~1 200℃终烧薄膜复合结构中的氧空位形成进行分析;采用丝网印刷法在薄膜表面获得两条平行高温银浆电路层,并以其为散热基板进行LED器件板上芯片封装(COB)。通过扫描电镜(SEM)与光学显微镜对薄膜微观形貌及封装结构进行观察,并通过LED热光参数测试仪对其结温进行探究。结果表明,终烧温度升高,薄膜氧空位浓度增大,g因子接近自由电子值2.0023。高温银浆导电层均匀致密保证良好电导效果。1 200℃终烧薄膜作为散热基板具有较好热传导与绝缘特性,其封装LED结温约为33.7℃,低于120℃限制,有望规模应用于大功率LED器件领域。

沉积参数对硅碳氧薄膜光学性能的影响研究

硅碳氧薄膜拥有热稳定性好、能带宽、折射率大、硬度高、热导率高等优异性能,是一种具有潜在应用价值的新颖光学薄膜。采用射频磁控溅射技术在K9玻璃上制备了硅碳氧薄膜,并研究了沉积参数对硅碳氧薄膜光学性能的影响。结果表明,所制备的硅碳氧薄膜呈现出优异的光学透射性能,工作压力的增高和溅射功率的降低都会使薄膜的透射光谱发生蓝移现象,而基片温度的降低、工作压力的升高及溅射功率的减小都能使薄膜的光学透射性能更好。改变沉积参数,可以获得不同的薄膜沉积速率。折射率在1.80～2.20之间变化。

Self-assembled Carbon Nanotube/Silicone Composite Films and Their Electrical Properties for Electrical Device

Novel composites were synthesized using AEPTES （3-（2-aminoethylamino）propyltriethoxysilane）, which behaves as an excellent dispersant for MWCNTs （multiwall carbon nanotubes） in polymer film matrices. The thickness of the synthesized nanocomposite films ranged from 50 to 70 lam, having well-dispersed MWCNTs. Increasing the AEPTES concentration from 0.0196 to 0.0300 M, increased the amine content and the dispersion of MWCNTs. The film synthesized at 0.0300 M AETPES exhibited the greatest degree of dispersion among the three samples, which is consistent with a self-assembled silane group interacting with the MWCNT surface.