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碳靶电流对掺铬类石墨镀层结构和性能的影响研究 被引量:1
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作者 施文彦 陆斌斌 +2 位作者 陈妍 叶平 蒋百灵 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第8期109-114,共6页
目的采用物理气相沉积磁控溅射方法,通过控制碳靶电流改变掺铬类石墨镀层的碳含量,在高速钢基体上制备不同厚度的掺铬类石墨镀层,以探究碳含量对掺铬类石墨镀层结构和性能的影响。方法采用压痕法和划痕法对镀层的膜基结合强度进行评价... 目的采用物理气相沉积磁控溅射方法,通过控制碳靶电流改变掺铬类石墨镀层的碳含量,在高速钢基体上制备不同厚度的掺铬类石墨镀层,以探究碳含量对掺铬类石墨镀层结构和性能的影响。方法采用压痕法和划痕法对镀层的膜基结合强度进行评价。采用维氏显微硬度计对镀层的硬度进行分析。采用ST-2258A四探针测试仪测量镀层的电导率。使用扫描电子显微镜对镀层的微观结构进行分析。使用摩擦磨损仪对镀层的摩擦学性能进行探究。结果随着碳靶电流的增加,掺铬类石墨镀层的截面柱状化现象越来越明显,表面团簇颗粒直径越来越大。碳靶电流为1 A时,镀层的截面形貌为细晶团簇结构;碳靶电流为3 A时,镀层截面产生柱状结构。镀层的复合硬度随着镀层碳靶电流的增加逐渐增大,在碳靶电流为3 A时,镀层的维氏硬度最大,为436HV。随着碳靶电流增加,镀层电导率逐渐上升。结论随着碳靶电流的增大,镀层致密度逐渐下降,镀层的电导率逐渐增加,镀层的摩擦系数逐渐减小,适当的碳靶电流能使类石墨镀层在功能化与力学性能上达到最佳效果。 展开更多
关键词 磁控溅射 类石墨镀层 碳靶电流 结构分析 性能
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靶电流对磁控溅射类石墨镀层组织与性能的影响 被引量:2
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作者 王瑜 王春伟 +2 位作者 袁战伟 张晓峰 王艳 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2017年第16期161-163,167,共4页
利用非平衡磁控溅射技术在铝合金表面制备了类石墨镀层,分析了碳靶电流对镀层组织、硬度、结合强度以及摩擦系数的影响。结果表明:碳靶电流在1.2~1.8 A内,电流越小,镀层越致密。随着碳靶电流的增大,镀层硬度先增加后降低,并在1.5 A时达... 利用非平衡磁控溅射技术在铝合金表面制备了类石墨镀层,分析了碳靶电流对镀层组织、硬度、结合强度以及摩擦系数的影响。结果表明:碳靶电流在1.2~1.8 A内,电流越小,镀层越致密。随着碳靶电流的增大,镀层硬度先增加后降低,并在1.5 A时达到最大值226 HV0.025。结合强度、摩擦系数随碳靶电流的增加而降低;碳靶电流为1.8 A时,摩擦系数达到最小值0.2。 展开更多
关键词 非平衡磁控溅射 类石墨镀层 碳靶电流 硬度
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Influence of Ti target current on microstructure and properties of Ti-doped graphite-like carbon films 被引量:7
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作者 王永欣 王立平 薛群基 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第6期1372-1380,共9页
Ti-doped graphite-like carbon (Ti-GLC) films were synthesized successfully by magnetron sputtering technique. The compositions, microstructures and properties of the Ti-doped GLC films dependent on the parameter of ... Ti-doped graphite-like carbon (Ti-GLC) films were synthesized successfully by magnetron sputtering technique. The compositions, microstructures and properties of the Ti-doped GLC films dependent on the parameter of Ti target current were systemically investigated by Raman spectra, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscopy (AFM), nanoindentation and ball-on-disk tribometer. With the increase of the Ti target current, the ratio of sp2 bond and the content of Ti as well as the film hardness and compressive internal stress increase, but the high content of the Ti would result in the loose film due to the formation of the squamose structure. Less incorporated Ti reduces the friction of the GLC film in dry-sliding condition, while pure GLC film exhibits the lowest friction coefficient in water-lubricated condition. Ti-GLC film deposited with low Ti target current shows high wear resistance in both dry-sliding and water-lubricated conditions. 展开更多
关键词 Ti-doped graphite-like carbon film MICROSTRUCTURE tribological performance target current
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