三方晶系的非线性磁光克尔谱及其表面磁化强度取向的效应

本文计算了三方结构不同表面和不同磁化强度取向下的 χ( 2 ) 、SHG、MSHG及非线性克尔旋转角 Φ( 2 )k,a.结果表明 ,SHG和 Φ( 2 )k,a值非常灵敏地依赖于薄膜的表面及磁化强度的取向 ;三方结构的 SHG、Φ( 2 )k,a与 fcc、bcc和 hcp结构的相比有很大的差异 ,这表明结构对非线性磁光效应有重要的影响 ;当 M∥X、Y轴时 ,MSHG信号很明显 ,这表明可通过 A值的测量来研究磁性薄膜表面的磁畴结构以及取向 .

Ni_xSiO_(2(1-x))颗粒膜的光学和磁光特性研究

用磁控溅射法制备了一系列 Nix Si O2 (1 - x) 样品 ,并对部分样品作快速退火处理 ,室温下采用椭圆偏振光谱仪和磁光谱仪分别在 1.5～ 4.5 e V的光子能量区测量了样品的复介电常数谱和极向复磁光克尔谱 ,研究了这种金属 -绝缘体型颗粒膜的光学和磁光性质 .发现调整合适的金属含量或对样品作退火处理 ,可以观察到复介电常数的实部从正到负的连续变化 ,而且在一定光子能量区 ,其值为零 ;

The Influence of the Plasma Absorbing Edge on the Magneto Optic Kerr Effect in Multilayer Metallic Films

通过分析由光诱致的电荷密度涨落对铁磁／非磁性（ＦＭ／ＮＭ）金属多层膜非磁性层中费米面附近电子的交换劈裂能的影响，对ＮＭ层金属附加磁光克尔效应的频谱特性进行了理论推导和定量计算，证明ＦＭ／ＮＭ多层膜在其ＮＭ层的等离子体吸收边附近确实可能存在磁光克尔谱的增强，并讨论了有些样品没有出现这种增强峰的原因．