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光调制直接重写磁光双层耦合膜磁基本特性的一种解耦方法
1
作者
朱全庆
谭立国
+3 位作者
李震
李佐宜
蔡长波
邱进军
《磁记录材料》
1999年第3期8-9,34,共3页
采用FFT方法对光调制直接重写磁光双层耦合膜的磁基本特性进行解耦,得到各单层薄膜在耦合状态下的特性,并用于分析计算磁光双层耦合膜之间的层间耦合能。
关键词
磁光双层耦合膜
磁
强计
光
调制
解耦
磁
特性
下载PDF
职称材料
题名
光调制直接重写磁光双层耦合膜磁基本特性的一种解耦方法
1
作者
朱全庆
谭立国
李震
李佐宜
蔡长波
邱进军
机构
华中理工大学电子科学与技术系
出处
《磁记录材料》
1999年第3期8-9,34,共3页
文摘
采用FFT方法对光调制直接重写磁光双层耦合膜的磁基本特性进行解耦,得到各单层薄膜在耦合状态下的特性,并用于分析计算磁光双层耦合膜之间的层间耦合能。
关键词
磁光双层耦合膜
磁
强计
光
调制
解耦
磁
特性
分类号
TP333.41 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
下载PDF
职称材料
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作者
出处
发文年
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1
光调制直接重写磁光双层耦合膜磁基本特性的一种解耦方法
朱全庆
谭立国
李震
李佐宜
蔡长波
邱进军
《磁记录材料》
1999
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