非晶态Tb Fe Co磁光膜的HREM研究

磁光介质的性质与其微观结构有密切的关系,H.J.leamy等曾研究过RE-TM非晶态材料的柱状微结构[1]。但未涉及Tb Fe Co膜,且所采用的复型技术显得不适用。在与磁光介质性能劣化相联系的实用化上,Tetsuo Zijima等研究过RE-TM膜的稳定性,其着重点限于氧的扩散和Co在Tb Fe Co膜中的作用,未对晶化引起劣化给予仔细的研究[2]。本文对磁控溅射Tb Fe Co磁光膜的老化及晶化引起的微结构变化进行了HREM研究。由XMA测得该膜的成分为Fe36.5Co48.8Tb14.7(WT％)

一种改进石榴石磁光膜(盘)性能的新型热处理技术的研究

本文给出了一种快速周期退火这一新技术。用它对 RF 磁控溅射法制备的石榴石磁光膜进行热处理光学均匀性变好,晶粒尺寸减小(30nm),法拉第效应增强,矫顽力增大。膜结构的 X 射线衍射分析表明,多周期退火的样品仅呈现单相石榴石,较少周期退火的样品除石榴石相外,还有 DyFeO_3相析出。对上述结果作了理论分析。

复合外场中磁光材料(BiTm)_3(FeGa)_5O_(12)薄膜畴壁运动特性的研究

通过对 (BiTm) 3 (FeGa) 5O12 膜施工加低频交变磁场 ,匀速率增加的直流磁场和同时对该膜施加这两种磁场 (复合外场 ) ,用照相划线读数方法和通过电荷耦合器件 (CCD) 计算机作数字化处理获得磁畴壁 (DW)的相对百分数。结果表明 :( 1 )复合外场下DW运动规律中存在交互作用项 ;( 2 )低频交变磁场幅值 ( 1 4 0A/m)远低于等效阻力场 ( 1 0 3 A/m)时 ,DW可以运动 ,但不同步 ,频率大于 1Hz时明显滞后 ,( 3 )利用图像转换有利于提高实验结果的分辨率。

快速循环晶化高Bi代DyGaIG磁光膜的研究

本文提出一种细化柘榴石磁光膜晶粒的有效方法。理论和实验结果分析表明该方法较普通方法有许多明显的优点。

新型掺Bi的YIG磁光薄膜

对用于磁光法拉第旋转器件的掺Bi的YIG薄膜进行了介绍与分析，这种新型磁光薄膜（YbTbBi）3（FeGa）5O12是采用液相外延技术在CaMgZr：GGG晶片的〈111〉方向生长的，通过合理的配方及工艺生长出了成份均匀，光吸收小，在波长λ＝1．31μm和λ＝1．55μm时，插损分别为0．3dB和0．2dB，法拉第旋转角分别为2400°／cm和1600°／cm的薄膜，经抛光至290μm的厚度，法拉第旋转角为45°（波长λ＝1．55μm）。性能参数基本达到实用化器件的要求。

电介质保护膜对磁光记录膜的磁和磁光特性的影响

采用射频磁控溅射法制备了非晶TbFeCo薄膜及其保护层AlN薄膜 ,并研究保护层对薄膜的磁和磁光特性的影响。结果表明 ,AlN薄膜可以增强薄膜磁光效应 ,同时 ,AlN薄膜对TbFeCo磁光薄膜的矫顽力、垂直磁各向异性以及本征克尔角都有一定的影响。

反应溅射DyFeCo薄膜的界面特征及其对磁光特性的影响

采用RF磁控溅射方法制备了一系列AlN／DyFeCo／glass多层磁光薄膜。扫描电镜分析表明，随着溅射DyFeCo薄膜时氩气压的增大，AlN／DyFeCo界面的粗糙程度增大。进一步的研究表明，界面粗糙程度的改变对磁光多层膜的磁光特性影响很大，界面越粗糙，矫顽力从越大，反射率R越低，而克尔角θk首先随表面粗糙程度的增大而增大，到达一极大值然后再随表面粗糙程度的增大而减小。

光调制直接重写磁光多层膜的制备及其性能研究

本文研究了光调制直接重写磁光多层膜的制备及其磁与磁光特性。成功研制了满足光调制直接重写要求的不同居里温度的磁光存储介质。

可擦型富Tb的TbFeCo磁光存贮膜静态记录性能实验测试

实验测试了富Ｔｂ的ＴｂＦｅＣｏ磁光存贮膜对６３２．８ｎｍ激光的静态记录性能．结果表明，当记录激光功率小于３．５ｍＷ时不能实现记录．记录磁畴尺寸随记录激光功率和记录外加磁场的增加而增大．

DyFeCo磁光记录膜的制备及其磁光记录特性的厚度效应

利用磁控溅射方法制备DyFeCo薄膜，磁光特性的测量表明，在适当的溅射条件下，DyFeCO薄膜具有良好的磁光记录特性。同时，矫顽力的大小与薄膜厚度有关，其内在机制可“用内应力“钉扎”

光调制直接重写磁光双层耦合膜磁基本特性的一种解耦方法

采用FFT方法对光调制直接重写磁光双层耦合膜的磁基本特性进行解耦，得到各单层薄膜在耦合状态下的特性，并用于分析计算磁光双层耦合膜之间的层间耦合能。

光调制直接重写磁光多层膜测试方法研究

为了测试光调制直接重写磁光多层膜的磁光性能 ,试制了磁光多层膜光调制直接重写特性测试系统。磁光信号检测采用改进差动式检测 ,检测方式仅与磁光克尔角大小有关 ,可以用来作样品的克尔角指示。同时 ,该检测方式由于不受激光功率和盘片反射率变化的影响 ,对光电探测器的温漂特性也有良好抑制作用 ,更适合静态实验的需求 ,可以较好地测试光调制直接重写磁光多层膜的磁光性能。

磁光多层膜的Kerr增强效应的研究

从相干光迭加的普遍原理出发，研究了双层膜系的磁光效应，从理论上导出了双层膜系Ｋｅｒｒ角反射率和椭圆率与磁光双层膜各膜层的光学参数和膜厚的关系表达式。并验证该表达式的正确性。提出利用双层膜系磁光效应的表达式计算磁介质薄膜介电张量矩阵的矩阵元，从而计算磁介质薄膜的光学常数的方法。研究结果表明，该方法能够解决测量介电张量矩阵的矩阵元方面存在的困难。

“磁－光－膜”对白云边酒的催陈作用

“磁－光－膜”对白云边酒的催陈作用──《白云边酒磁－光－膜催陈研究》技术报告之三吴忠亚，熊小毛，赵刚，蒋茂贵，喻力行，宋国强，沈青（湖北省白云边酒厂，湖北省环保研究所）我国传统的名优白酒都要经过一定时间的贮存陈酿后，方能出厂，为了缩短存放时间，国内外...

非均匀晶化Bi和Ba代替DyIG膜的法拉第效应研究

报道了快速循环晶化Ｂｉ和Ｂａ代替ＤｙＩＧ磁光膜的实验结果，发现在累加退火时间小于３分钟时（温度６５０～６８０℃）膜内部存在非晶区域和沿厚度晶化不均匀现象。导出晶相与非晶相界面法拉第角计算公式。计算结果表明，界面效应导致膜整体法拉第效应减弱。

几种新型结构光纤隔离器

简要介绍了光纤隔离器的原理及其在光通信中的应用。着重分析讨论了几种新型光纤光隔离器的原理,结构及性 能。总结了光纤隔离器的发展现状,探讨了光纤隔离器的发展前景及方向。

1999～2000年金属磁性功能材料新进展

本文是从 1997年起关于金属磁性功能材料每年若干新进展综合评述的继续。这次内容包括 :(1)新的Fe Si合金材料 ;(2 )高频软磁金属材料 ;(3)Sm Co系稀土永磁材料 ;(4 )多层膜磁光材料 ;(5 )