用于磁力显微镜探针覆盖层的FePt-MgO薄膜的结构与磁性研究

磁力显微镜(magnetic force microscopy,MFM)是研究磁性材料与器件纳米尺度磁畴结构的有力工具,MFM探针性能直接影响到MFM的空间分辨率。本文研究了退火温度对FePt-MgO薄膜结构与磁性能的影响,并对MFM探针制备条件进行优化。研究结果表明:随着退火温度升高,FePt-MgO薄膜的表面形貌变得粗糙且不连续,薄膜的矫顽力增大,测得的磁畴密度减小,畴壁变得模糊;使用自制的MFM探针可以成功测得硬磁薄膜、磁带及硬盘驱动器介质的磁畴结构。

磁力显微镜在Nd-Fe-B硬磁材料上的应用

介绍了磁力显微镜 (Magnetic Force Microscopy,MFM)的原理、操作以及用于 Nd- Fe- B合金磁畴观察的研究状况 .并用这种技术观察了粉末烧结和爆炸压制两种工艺制备的 Nd- Fe- B合金的磁畴 ,给出了它们各自不同的畴结构特征 .

磁力显微镜在磁性材料领域的应用

磁力显微镜（ＭＦＭ）是一种新发展起来的用于研究物质磁性的重要技术．本文简要地介绍了ＭＦＭ的基本工作原理、影响分辨率的主要因素，以及ＭＦＭ在磁记录体系、磁性薄膜和铁磁学基本现象研究方面的应用情况．本文还报道了ＭＦＭ在有机铁磁体和生物分子磁性研究方面应用的重要意义及其发展趋势。

利用磁力显微镜观察铁镍合金丝的磁畴结构

本文介绍了磁力显微镜的起源和基本原理,以及应用状况。尝试了用磁力显微镜观察铁镍合金和铁镍合金丝的纵截面磁畴结构,并比较了退火前后合金丝的磁畴结构的变化。分析了拉拔应力以及退火对铁镍合金磁织构的影响。

磁力显微镜的发展历史、原理和应用

磁力显微镜(MFM)的分辨率高达20～50nm,是纳米尺度磁性材料表面磁结构研究新的有力的工具.本文简单介绍了MFM的历史、原理、运作和应用,并介绍了中科院物理所一年来的MFM研究,举了两个实例.最后,对MFM研究的重要问题作了评论.

2：17型Sm（Co，Fe，Cu，Zr）z磁体微磁结构的磁力显微镜研究

用磁力显微镜（MFM）研究了2：17型Sm（Co，Fe，Cu，Zr）z磁体的微磁结构。通过对镀和不镀Ta高温退火前后样品的微磁结构的比较。研究表明：20nm厚度的Ta膜保护层能有效抑制高温下Sm的挥发；对于2：17型Sm-Co磁体，样品制备过程中介入的应力只能对磁畴结构产生局域的影响；不镀Ta膜高温退火后，由于Sm严重挥发，样品表面微磁结构发生很大变化。对比高矫顽力Fe-Pt针尖和普通Co-Cr MESP针尖测量的磁力图，

TbFe磁性薄膜的磁力显微镜成像研究

利用磁力显微镜（MFM）对TbFe磁性薄膜进行了不同抬举距离（分别为60～780nm）的磁力成像研究．在实验中，比较了低抬举距离（100nm以下）磁力像中样品-针尖的互相干扰；同时发现在高抬举距离磁力像中，随着抬举距离的增大，出现了与高凸起形貌对应的图像衬度特征，并随抬举距离的变化也改变着位置与强度，一直到抬举距离为仪器的极限值780nm时，形貌干扰仍未消失，对其形成机制进行了分析．

磁性石榴石薄膜的磁力显微镜研究

本文采用磁力显微镜（ＭＦＭ）对磁性石榴石（ＹＧｄＢｉ）３（ＧａＦｅ）５Ｏ１２薄膜的磁畴结构进行了观察研究。实验结果表明，磁性针尖的磁特性对石榴石ＭＦＭ图像的影响较大，而且随着针尖与样品间距的增大，磁针尖对石榴石畴结构的影响有所降低。另外，改变针尖的磁化方向，得到的石榴石磁畴结构也有所不同。

用低温磁力显微镜观察YBa_2Cu_3O_(7-x)超导薄膜中的涡旋

用低温磁力显微镜观察ＹＢａ＿２Ｃｕ＿３Ｏ＿（７－ｘ）超导薄膜中的涡旋＠郑兆佳＠袁彩文￥武汉工业大学材料研究与测试中心￥美国德克萨斯大学（奥斯汀）物理系用低温磁力显微镜观察ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－ｘ超导薄膜中的涡旋郑兆佳袁彩文ＡｌｅｘｄｅＬｏｚａｎｎｅ（武汉工业...

磁场内磁力显微镜观测技术

磁力显微镜观测是研究磁性材料强有力的手段之一，可以对磁性材料的磁畴结构进行直接的观测，利用磁力显微镜对磁记录媒体的研究更是目前研究人员关注的热点之一。本文介绍了目前非常先进的磁场内磁力显微镜观测技术对垂直磁记录媒体的研究。将磁力显微镜和可变化的磁场相结合，这样就可以观察到磁性材料在磁场内的磁结构的在线变化，从而得到磁性材料更多的信息。例如：利用该技术对垂直记录媒体进行研究可以对垂直记录媒体的磁化反转场分布进行测量，从而得到磁化反转场分布地图；利用磁化反转场地图技术可以对媒体的其它性能进行更深入的研究，包括磁化反转机制，激活体积的测量以及媒体噪音和媒体磁化反转场的关系等等。

利用磁力显微镜研究倾斜溅射对TbFe薄膜磁性能的影响

磁力显微镜(MFM)作为研究表面磁结构的有力工具已广泛应用于磁性薄膜的研究。TbFe磁致伸缩薄膜在实际应用中要求易磁化轴平行于膜面,以获得较低的面内饱和场Hs。传统的成膜技术难以实现这一目标,采用倾斜溅射方法制备TbFe薄膜可有效降低面内饱和场Hs。通过测量样品的磁滞回线可以发现,易磁化轴随着溅射角度的增加逐渐偏离样品的法线方向,而取向于平行膜面。本研究工作利用MFM研究了不同溅射角度得到的TbFe薄膜的磁畴结构。发现薄膜的磁畴结构随着溅射角度的增加逐渐由垂直畴转化为水平畴,与磁滞回线测量得到的易磁化轴方向发生偏转的结果相吻合。

倾斜溅射制备TbFe薄膜的磁力显微镜研究

磁力显微镜(MFM)作为研究表面磁结构的有力工具广泛地应用于磁性薄膜的研究中.TbFe磁致伸缩薄膜在实际应用中要求易磁化轴平行于膜面,以具有较低的面内饱和场Hs,传统的成膜技术难以实现这一目标,采用倾斜溅射方法制备TbFe薄膜可有效降低面内饱和场Hs.通过测量样品的磁滞回线可以发现,易磁化轴随着溅射角度的增加逐渐偏离样品的法线方向,而取向于平行膜面.本研究工作利用MFM研究了不同溅射角度得到的TbFe薄膜的磁畴结构.发现薄膜的磁畴结构随着溅射角度的增加逐渐由垂直畴转化为水平畴,与磁滞回线测量得到的易轴方向发生偏转的结果相吻合.

磁力显微镜中镍针尖的制备

讨论了磁力显微镜中的镍针尖的制备技术 ;并通过改进以往采用直流电化学腐蚀方法制备针尖的电路 ,可以在金属丝被腐蚀断裂瞬间获得更短的腐蚀电流切断时间 .当腐针电路切断时间减少到 2 0 0ns时 ,可重复获得半径优于 10nm的镍针尖 .

铁基非晶态合金Fe_(67)Co_(9.5)Nd_3Dy_(0.5)B_(20)磁力显微镜的研究

利用单辊急冷法制备出厚40～50μm、宽约3mm的Fe67Co9.5Nd3Dy0.5B20条带,运用磁力显微镜(MFM)的方法对该合金进行分析,从所得磁力图中看到试样退火后在基体上会析出一定量的硬磁相R2M14B(M=Fe或Co,R=Nd或Dy),其磁畴尺寸范围为200～500nm,磁畴尺寸远大于晶粒尺寸,磁畴跨越许多晶粒,即出现交换作用畴结构.

Fe基合金薄带磁畴结构的磁力显微镜观察

采用单辊快焠法制备Fe73.3Cu1Nb3Si13.5B9非晶合金薄带,经550℃自由退火和171 MPa张应力退火处理,利用磁力显微镜(MFM)观察了自由退火和应力退火薄带表面磁畴结构及横断面介观结构。结果表明,自由退火样品具有均匀分布的纳米晶粒及易磁化方向随机分布的迷宫畴,应力退火样品具有方向优势的颗粒团聚及易磁化轴在面内的带状畴,这两种磁畴结构的形成可能与晶粒的晶化行为密切相关。

磁力显微镜图像量化分析方法的研究

磁力显微镜(magnetic force microscope,MFM)因测量不破坏样品、样品无需特别制备、以及纳米尺度的分辨率(10~50 nm)等优势,而广泛应用于各种磁性材料中磁畴结构的研究,尤其成为磁记录工业中研究磁介质和磁头的磁畴结构或磁场分布的有力工具.但是,标准MFM图像实际上是磁场力的二阶梯度图,而如何定量分析MFM图像、得到样品内部的磁矩分布信息,是近年来MFM研究领域迫切需要解决的问题,也是当前研究的热点.本文通过构筑精确的MFM成像理论发展一种磁力显微镜量化分析方法,为磁信息存储工业等重要领域关键技术的发展提供新型有力的工具.本文的关键在于构建MFM针尖的三维格林函数,通过格林函数方法解卷积MFM图像,获取样品中的有效磁荷结构.其次,建立和实际样品相符的微磁学模型,以有效磁荷驱动磁畴、畴壁的运动,构筑样品内部真实的磁畴结构,由此完成对MFM图像的量化解释.

交变力磁力显微镜:在三维空间同时观测静态和动态磁畴

传统磁力显微镜(MFM)的磁畴扫描是利用激光束反射探测探针和样品之间的静磁力.因此,对于MFM,直接探测样品在交流磁场作用下的动态磁力仍然是一个挑战.交变力磁力显微镜(A-MFM)使用Co-GdOx超顺磁探针可以实现在交流磁场(频率 ωm)作用下探测动态磁力.采集 ωm和2ωm信号能准确地表示出样品的静态磁场(外加交流磁场对样品磁化状态没有影响)和动态磁场(外加交流磁场改变了样品磁化状态)的区域.通过修改传统的tapping-lift扫描模式为一次tapping多次lift的扫描模式,A-MFM实现了三维空间的磁场探测.本文证明了样品的静态和动态磁场随探针和样品之间距离z的变化,满足Hz(z)=Hz(0)·exp(–kz).A-MFM可以研究材料的动态磁化过程,也可以评价材料的磁均匀性(微观结构均匀性).

磁力显微镜及磁性涂层表面观测

利用原子力显微镜（AFM）和磁力显微镜（MFM）技术初步观测了由单畴或接近单畴的钡钴钛铁氧体BaMxFe12-xO19（M=Co，Ti；x=0．7）颗粒做成的磁性涂层的形貌和表面散磁场的分布状况。同时用振动样品磁强计（VSM）测量了该涂层的退磁曲线。从观测照片上可以看出涂层表面颗粒分布状态和磁场分布情况。

磁力显微镜在磁记录薄膜研究中的应用

首次使用磁力显微镜（MagneticForceMicroscope）观察和分析了化学镇CoNiMnP垂直磁记录膜的磁畴结构，讨论了范德瓦尔斯力对MFM成像的影响。