基于交互正交设计的磁力研磨Si_3N_4陶瓷试验研究

利用雾化快凝法制备的球形磁性磨料,设计合理的交互正交优化实验,对Si_3N_4陶瓷材料进行磁力研磨加工,探究加工Si_3N_4材料的最佳工艺参数组合。并对各影响因素进行分析。通过SEM扫面电镜及白光干涉仪对加工后的表面粗糙度进行分析,探究所能达到的最佳表面粗糙度。结论:当工艺参数为:转速S=1000 r/min,加工间隙δ=2.5 mm,磨料填充量为2.5 g时,经分析可得,工件的平均表面粗糙度由加工前的1.95μm下降到0.56μm。