磁控阴极溅射靶三维磁场的有限元分析

采用有限元方法对磁控阴极溅射靶三维磁场进行了计算和分析．该装置是一种用于玻璃镀膜的永磁装置，主要由永磁体、铁磁材料和不锈钢板组成．为保证靶中不锈钢板表面的磁场均匀分布，进行了多种方案的计算和调整，给出了一种实用方案，使得装置性能得到明显改善．

影响磁控阴极溅射法镀膜玻璃质量的原因及解决办法

介绍磁控阴极溅射法镀膜玻璃的生产原理、特点和影响镀膜玻璃质量的原因和解决的办法。讨论了氩气对膜层的影响、环境对膜层的牢固度的影响、原片质量及洗涤后二次污染对膜层的影响。指出溅射效果的好坏与现场的环境有密切的关系。

JPD-1200型矩形双平面磁控溅射阴极镀膜设备的研制

介绍了设备的结构、组成及工作过程 ,对新型矩形双平面磁控溅射阴极及有关的各阴极进行了分析、比较。

一种新型磁控溅射贵金属靶材设计

通过Ansys有限元模拟传统圆形平面磁控溅射阴极的磁场排布,分析了直径为72mm圆形平面溅射阴极靶材利用率低的原因,模拟计算得到靶材表面水平方向Bx和By磁场分布数据,以此为依据设计一种新型的圆形平面溅射磁控靶材,采用塑料绑定的方式固定贵金属靶材和特殊结构铜背板,替代传统贵金属靶材结构。测试结果表明优化后的磁控溅射靶材在保证原磁控溅射靶材的利用率的情况下,减少贵金属材料占比80%,从而了降低贵金属靶材的成本。

冷热复合处理对CrN涂层结构及力学性能的影响

为了改善CrN涂层的塑性变形能力,通过增强阴极弧磁控溅射技术在316L不锈钢上制备了CrN涂层。利用管式炉和液氮对CrN涂层分别进行冷处理、热处理以及冷热复合处理。通过X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)以及纳米压痕仪表征涂层在后处理前后的微观结构、形貌特征、残余应力及力学性能。结果表明:经过后处理的CrN涂层硬度均有小幅度降低,但其塑性变形能力均提高。其中,先热后冷复合处理几乎保持CrN涂层硬度不变(仅降低0.7%),同时提高了其塑性变形能力(提高3.1%),增强了其韧性。

真空离子精饰镀膜技术研究

黄铜基材装饰件表面采用高能级溅射离子镀 ,镀不锈钢代替电镀钯 -镍合金 ,采用等离子体型阴极弧源 -磁控溅射镀技术在不锈钢镀膜表面上镀制 Ti N/ Au透明陶瓷保护膜 Si O2 、Ti O2 。并对各膜层的硬度、耐蚀性、耐磨性及相结构进行分析。

热反射玻璃膜层均匀度的研究

通过对热反射玻璃膜层均匀度的研究，找出了影响膜层均匀度的主要原因及其解决方法。

铁磁材料低温磁性能测量研究

采用模拟冲击法研究了铁磁材料在300和77 K环境下的磁性能。以电工领域常用的铁磁材料DT4、1J22、2Cr13和非晶FeSiB为研究对象。结果表明,在液氮环境下,DT4、1J22、2Cr13和非晶FeSiB的饱和磁感应强度均略有增加,其中非晶FeSiB的饱和磁感应强度增幅最大为5.3%; DT4、非晶FeSiB和2Cr13的矫顽力增幅较大,DT4的矫顽力增幅为106%,而1J22的矫顽力减小了1.7%;频率为50 Hz时,在液氮环境下DT4的损耗相比室温急剧增加,增幅达263.2%,非晶FeSiB和2Cr13的损耗相比室温略有增加,而1J22的损耗相比室温变化不大。最后,以超导线圈激磁的强磁场磁控溅射阴极的磁场计算为例,在铁芯结构相同的情况下,采用1J22作铁芯的磁控阴极靶面磁场水平分量的最大值为0.2344T,相比2Cr13作铁芯磁场水平分量最大值增加了14.8%。有关铁磁材料的低温磁性能研究可以为超导电磁装置的铁芯磁路设计提供依据。