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外磁场作用下磁流体薄层的光学特性研究 被引量:4
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作者 方晓鹏 宣益民 李强 《工程热物理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1386-1388,共3页
基于磁流体的微观聚集结构,本文建立了研究磁流体薄层光学性质的模型,运用蒙特卡洛方法模拟计算了磁流体薄层的光谱透射率,并分析了外加磁场对磁流体薄层透射率的影响。结果表明外加垂直于磁流体薄层方向的磁场作用时,磁流体薄层的光谱... 基于磁流体的微观聚集结构,本文建立了研究磁流体薄层光学性质的模型,运用蒙特卡洛方法模拟计算了磁流体薄层的光谱透射率,并分析了外加磁场对磁流体薄层透射率的影响。结果表明外加垂直于磁流体薄层方向的磁场作用时,磁流体薄层的光谱透射率会随着外加磁场强度的增大而增大。而外加平行于薄层方向的磁场作用时,磁流体薄层的光谱透射率无明显变化,但局部透射率呈现矩形波式的分布。 展开更多
关键词 磁流体薄层 微观聚集结构 光谱透射率 蒙特卡洛法
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