热处理时间对NiFe薄膜性能的影响

用磁控溅射法制备了厚度20～200nm的NiFe合金薄膜。研究了热处理时间(及温度)对NiFe薄膜的电阻(电阻率)、各向异性磁电阻比和软磁性能的影响。在一定温度下,经适当时间的热处理可以减小NiFe薄膜的电阻、增大其各向异性磁电阻比,从而制备出性能较好(各向异性磁电阻比较大、温度稳定性较好)的薄膜磁性材料。