基于响应面法的磁记录写场分析

提出了一种基于响应面的磁记录写场分析方法,该方法由基于有限元电磁场分析的参数化写头模型;基于有限差分法的磁性存储介质微磁模型;基于响应法的有效写场模型3个主要模块构成,并能够有效的分析写头几何结构与存储介质对有效写场梯度产生的综合影响。利用该方法,进一步分析了面向瓦片式磁记录的非对称式写头的几何设计参数与存储介质属性对有效写场梯度的影响。分析结果表明,在本办法涉及的写头设计参数中,主磁极尾部屏蔽间隙为主要影响参数,横向屏蔽间隙为次要影响参数。此外,磁性存储介质的各项异性能密度与写头几何参数会对有效写场梯度的影响有较强的交叉作用,从而说明了写头与存储介质作为整体进行设计的必要性。