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题名P—N结磨角器的设计,误差分析和选用
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作者
王彦才
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出处
《微电子测试》
1991年第4期15-19,共5页
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关键词
半导体器件
工艺
磨角器
设计
误差
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分类号
TN305.2
[电子电信—物理电子学]
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题名基于磨角染色法的结深测试及新应用
被引量:1
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作者
孙楠楠
刘剑
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机构
中国电子科技集团公司第四十七研究所
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出处
《微处理机》
2017年第6期47-51,共5页
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文摘
通过传统的磨角染色法,利用不同染色液工作机理的不同,使PN结两侧的不同掺杂区域发生差异化上色,并运用光学干涉法产生干涉条纹,从而对半导体制造生产实践中至关重要的结深信息进行读取,至今仍具有重要的现实意义。通过对相关工作原理、光学原理、化学原理等的描述,详细介绍了磨角染色法的完整实施流程。对磨角染色法的特点进行了归纳,并通过具体实例的列举与分析,提出了传统磨角染色法在结深测试之外的其他方面的新应用,包括磨角染色法在管芯解剖分析、PCM测试管功能异常分析及离子注入工序生产故障的取证等方面发挥的全新的重要作用。
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关键词
磨角染色法
磨角器
结深测试
PN结
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Keywords
Wire bonding
Failure analysis
Stability
Reliability
Failure mode
Fracture
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分类号
TN43
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名硅片表面机械损伤层厚度的测试方法研究
被引量:1
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作者
邹子英
闵靖
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机构
上海市计量测试技术研究院
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出处
《上海计量测试》
2000年第6期42-42,45,共2页
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文摘
本文介绍了用磨角、择优腐蚀的方法显示和测试硅片表面的机械损伤层厚度的测试方法。原理和实验结果。
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关键词
单晶硅片
表面机械损伤层厚度
测试方法
半导体材料
磨角器
择优腐蚀法
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分类号
TN304.07
[电子电信—物理电子学]
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