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沉淀法去除钼酸钠溶液中磷和硅试验研究
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作者 高志强 任倩 《中国钼业》 2023年第3期41-44,共4页
采用沉淀法去除钼酸钠溶液中的杂质磷和硅,研究了沉淀剂种类、溶液pH值、时间、温度等条件对P、Si杂质去除率及除杂过程中Mo损失率的影响,结果表明:以氯化镁为沉淀剂时,除P率最高可达到92.9%,除Si率83.2%,因生成的镁盐呈胶体状态,具有... 采用沉淀法去除钼酸钠溶液中的杂质磷和硅,研究了沉淀剂种类、溶液pH值、时间、温度等条件对P、Si杂质去除率及除杂过程中Mo损失率的影响,结果表明:以氯化镁为沉淀剂时,除P率最高可达到92.9%,除Si率83.2%,因生成的镁盐呈胶体状态,具有吸附钼酸钠的能力,导致Mo损失率高达4.8%。直接以CaCl_(2)为沉淀剂,钙离子会同时与P、Si、Mo形成沉淀,导致P、Si去除率不理想且Mo损失率高达20.88%。将钼酸钠氧化为过氧钼酸钠后,再采用CaCl_(2)作为沉淀剂,可实现P、Si去除率均高于97.9%,Mo损失率低于0.25%。最佳工艺参数为:料液pH值8~10,沉淀剂用量系数为2,反应温度24~45℃,反应时间90~120 min。 展开更多
关键词 沉淀法 钼酸钠溶液 磷、硅去除率 钼损失率
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