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LPCVD+磷扩二合一设备的可行性研究
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作者 侯净雷 张华灿 +2 位作者 张黎静 赵爱爽 郑伟 《今日自动化》 2023年第4期31-34,共4页
文章首先介绍了在光伏电池生产过程中,LPCVD和磷扩散设备的结构和工艺原理,阐述了LPCVD和磷扩散工艺在TOPCon电池生产中,制备纳米级隧穿氧化层和磷掺杂多晶硅层的重要核心作用。然后介绍了TOPCon核心电池结构—隧穿氧化层和磷掺杂多晶... 文章首先介绍了在光伏电池生产过程中,LPCVD和磷扩散设备的结构和工艺原理,阐述了LPCVD和磷扩散工艺在TOPCon电池生产中,制备纳米级隧穿氧化层和磷掺杂多晶硅层的重要核心作用。然后介绍了TOPCon核心电池结构—隧穿氧化层和磷掺杂多晶硅层的两种主流量产工艺路线(LPCVD路线和PE-poly路线),并重点阐述了LPCVD和PE-poly两种工艺路线的优劣势分析,系统说明了LPCVD目前存在关键瓶颈难题以及解决方案,随着LPCVD工艺路线的行业难题得到解决,“LPCVD+磷扩散二合一设备”应运而生,此二合一设备将会在TOPCon电池产业化制造领域得到较好的提升及应用。 展开更多
关键词 LPCVD设备 磷扩散设备 掩膜 异形炉体
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