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掺磷氢化纳晶硅薄膜的晶粒尺寸和晶格畸变的研究 被引量:2
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作者 郜小勇 刘绪伟 +1 位作者 冯红亮 卢景霄 《郑州大学学报(理学版)》 CAS 北大核心 2010年第4期51-55,共5页
采用等离子增强化学气相沉积在玻璃衬底上制备了掺磷氢化纳晶硅薄膜,并利用X射线衍射谱(XRD)和拉曼散射谱研究了PH3浓度(GFR=[PH3]/[Si H4])对薄膜平均晶粒尺寸和晶格畸变的影响.结果显示磷弱掺杂有利于晶化,而重掺杂抑制晶化.随着GFR... 采用等离子增强化学气相沉积在玻璃衬底上制备了掺磷氢化纳晶硅薄膜,并利用X射线衍射谱(XRD)和拉曼散射谱研究了PH3浓度(GFR=[PH3]/[Si H4])对薄膜平均晶粒尺寸和晶格畸变的影响.结果显示磷弱掺杂有利于晶化,而重掺杂抑制晶化.随着GFR的增大,Si(111)方向上的平均晶粒尺寸呈现出先减小后增大的趋势,而对应的晶格畸变则呈现了相反的变化趋势,小的晶粒尺寸诱导了大的晶格畸变.该结果可归结于与平均晶粒尺寸相关的表面增强效应.在掺磷氢化纳晶硅薄膜的制备过程中,PH起了关键的有效掺杂作用. 展开更多
关键词 磷氢化纳晶硅薄膜 晶格畸变 平均晶粒尺寸 表面增强效应
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叔丁醇钠催化的δ-腈基-δ-芳基-双取代的对亚甲基苯醌和二芳基氧磷的磷氢化反应研究 被引量:1
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作者 王东琳 阚玲珑 +1 位作者 马玉道 刘磊 《有机化学》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2021年第8期3192-3203,共12页
报道了一种高效的δ-腈基-δ-芳基-双取代的对亚甲基苯醌和二芳基氧磷的1,6-共轭加成反应,合成了含有氰基取代的季碳中心的二芳基甲烷膦氧化合物.在温和的反应条件下此磷氢化反应能够顺利进行,以74%〜92%的收率得到目标产物.另外,该反应... 报道了一种高效的δ-腈基-δ-芳基-双取代的对亚甲基苯醌和二芳基氧磷的1,6-共轭加成反应,合成了含有氰基取代的季碳中心的二芳基甲烷膦氧化合物.在温和的反应条件下此磷氢化反应能够顺利进行,以74%〜92%的收率得到目标产物.另外,该反应具有优秀的官能团兼容性,展示出了很好的底物范围.所合成的含有氰基取代季碳中心的二芳基(多取代甲基)膦氧化合物在发展新的配体方面具有潜在的应用价值. 展开更多
关键词 对亚甲基苯醌 二芳基甲烷膦氧合物 磷氢化 季碳中心 1 6-共轭加成反应
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Brφnsted酸催化合成α-氨基膦酸酯 被引量:3
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作者 姚元勇 吴兰艳 +2 位作者 舒华 唐帮成 薛伟 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2014年第12期1428-1433,共6页
以芳香胺和肉桂醛为原料,合成的芳香族亚胺为亲电试剂,亚磷酸二乙酯或亚磷酸三乙酯为亲核试剂,在10%(摩尔分数)磷酸催化剂(BrΦnsted acid)的作用下,通过催化剂与亲电试剂、亲核试剂之间共同形成的双氢键或单氢键的作用,成功地合成... 以芳香胺和肉桂醛为原料,合成的芳香族亚胺为亲电试剂,亚磷酸二乙酯或亚磷酸三乙酯为亲核试剂,在10%(摩尔分数)磷酸催化剂(BrΦnsted acid)的作用下,通过催化剂与亲电试剂、亲核试剂之间共同形成的双氢键或单氢键的作用,成功地合成了α-氨基膦酸酯类化合物,收率可达到79%~85%。 展开更多
关键词 BRΦNSTED酸 Α-氨基膦酸酯 键作用 磷氢化反应
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催化动力学光度法测定痕量铜 被引量:2
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作者 王建华 阮文举 何荣桓 《铀矿冶》 CAS 1993年第1期51-55,共5页
在微酸性介质中,铜(Ⅱ)对磷钼酸氧化碘化钾的反应具有显著的催化作用,本文研究了反应的动力学条件,提出了一种测定痕量铜的动力学新方法。Cu^(2+)在0—0.64μg/mL范围内,催化-非催化体系在575nm处的吸光度差与铜(Ⅱ)含量成正比,方法检... 在微酸性介质中,铜(Ⅱ)对磷钼酸氧化碘化钾的反应具有显著的催化作用,本文研究了反应的动力学条件,提出了一种测定痕量铜的动力学新方法。Cu^(2+)在0—0.64μg/mL范围内,催化-非催化体系在575nm处的吸光度差与铜(Ⅱ)含量成正比,方法检测限为1 ng/mL Cu^(2+)。除Sn^(2+)、Fe^(2+)、V^(5+)等少数离子外,多数共存离子不影响测定。用本法测定了氧化镧及铝合金中的痕量铜,结果满意,样品标准加入回收率为95.6%—98.4%。 展开更多
关键词 动力学光度法 痕量分析 钼酸 吸光度 冶金分析
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掺磷nc-Si∶H薄膜的微结构与光电特性
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作者 刘利 马蕾 +4 位作者 吴一 范志东 郑树凯 刘磊 彭英才 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第10期2756-2761,共6页
采用常规射频等离子体增强化学气相沉积方法,以高氢稀释的Si H4为源气体和以PH3为掺杂剂,制备了磷掺杂的氢化纳米晶硅薄膜。结果表明,薄膜的生长速率随PH3/Si H4流量比(Cp)增加而显著减小。Raman谱的研究证实,随Cp增加,薄膜的晶化率... 采用常规射频等离子体增强化学气相沉积方法,以高氢稀释的Si H4为源气体和以PH3为掺杂剂,制备了磷掺杂的氢化纳米晶硅薄膜。结果表明,薄膜的生长速率随PH3/Si H4流量比(Cp)增加而显著减小。Raman谱的研究证实,随Cp增加,薄膜的晶化率经历了先增大后减小的过程,当Cp=1.0%,晶化率达到最大值45.9%。傅里叶变换红外吸收谱测量结果显示,薄膜中的H含量在Cp=2.0%时达到最低值9.5%。光学测量结果表明,本征和掺P的氢化纳米晶硅薄膜在可见光谱范围呈现出良好的光吸收特性,在0.8~3.0 e V范围内,nc-Si(P)∶H薄膜的吸收系数显著大于c-Si。和α-Si∶H薄膜相比,虽然短波范围的吸收系数较低,但是在hν〈1.7 e V区域,nc-Si(P)∶H薄膜的吸收系数要高两到三个量级,显示出优良的红光响应。电学测量表明,适当掺P会显著提高氢化纳米晶硅薄膜的暗电导率,当Cp=0.5%时,薄膜的暗电导率可达5.4 S·cm-1。 展开更多
关键词 掺杂纳米晶硅薄膜 界面体积分数 光吸收系数 暗电导率
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AM混合相Si:P:H薄膜的制备与分析
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作者 刘明 《烟台师范学院学报(自然科学版)》 1989年第1期38-41,共4页
本文介绍了SiH_4/PH_3混合气体的高频辉光放电法,在硅、玻璃衬底上淀积的掺P氢化非晶硅膜的结构和特性,并对样品作了高温退火试验。应用x射线衍射和红外吸收,对淀积膜的结构性质作了探讨和分析。结果表明,所淀积的是一种微晶——非晶混... 本文介绍了SiH_4/PH_3混合气体的高频辉光放电法,在硅、玻璃衬底上淀积的掺P氢化非晶硅膜的结构和特性,并对样品作了高温退火试验。应用x射线衍射和红外吸收,对淀积膜的结构性质作了探讨和分析。结果表明,所淀积的是一种微晶——非晶混合相掺P氢化非晶硅膜(AM-Si:P:H),这种膜具有良好的光电性能,较高的掺杂效率。经退火后,光电性能有所改善,是P-i-n太阳能电池所希望的n^+材料。 展开更多
关键词 高频辉光放电法 AM混合相 退火 掺杂效率 磷氢化非晶硅膜
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Damage effect and mechanisms of cyclophosphamide to human neuroblastoma SH-SY5Y cells
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作者 LI Jiajia WANG Jiao +4 位作者 XIAO Wenyi WEI Donghui ZHANG Yongxiang JIANG Ning ZHOU Wenxia 《中国药理学与毒理学杂志》 CAS 2024年第8期561-574,共14页
OBJECTIVE To investigate the damage effect and mechanisms of cyclophosphamide(CTX)and its active metabolite derivative 4-hydroperoxycyclophosphamide(4-HC)to human neuroblas⁃toma SH-SY5Y cells.METHODS SH-SY5Y cells wer... OBJECTIVE To investigate the damage effect and mechanisms of cyclophosphamide(CTX)and its active metabolite derivative 4-hydroperoxycyclophosphamide(4-HC)to human neuroblas⁃toma SH-SY5Y cells.METHODS SH-SY5Y cells were treated with CTX[0(cell control),0.01,0.1,1,5,10,20,40 and 80 mmol·L^(-1)]and 4-HC[0(cell control),0.01,0.1,1,5,10,20,40 and 80μmol·L^(-1)]for 48 h.Cell confluence and morphology were observed by the IncuCyte ZOOM system.Cell viability was assessed by CCK-8 assay.Lactate dehydrogenase(LDH)release was measured by LDH assay kit.SH-SY5Y cells were treated with CTX(0,1,5,10 and 20 mmol·L^(-1))and 4-HC(0,1,5,10 and 20μmol·L^(-1))for 48 h before cell proliferation was analyzed by 5-ethynyl-2′-deoxyuridine(EdU)staining assay.Immunofluorescence was employed to assess the levels of the DNA double-strand break markerγ-H2AX and to evaluate changes in mitochondrial membrane potential.SH-SY5Y cells were treated with CTX(0,1,5 and 10 mmol·L^(-1))and 4-HC(0,1,5 and 10μmol·L^(-1))for 48 h,and the alterations in glycolysis and oxidative phosphorylation levels were analyzed using the Seahorse XFe96 Analyzer.RESULTS Compared with the cell control group,cell confluence and cell viability were significantly reduced in the CTX and 4-HC groups(P<0.01),and the half-maximal inhibitory concentrations(IC50)for CTX and 4-HC were 4.44 mmol·L^(-1) and 4.78μmol·L^(-1),respectively.The release rate of LDH was signif⁃icantly increased while the percentage of EdU+cells was significantly reduced in the CTX and 4-HC groups(P<0.01).The percentage ofγ-H2AX+cells was significantly increased and mitochondrial membrane potential significantly decreased in the CTX and 4-HC group(P<0.05).Treatment with CTX and 4-HC resulted in reduced levels of maximum glycolytic capacity,glycolytic reserve,maximal respi⁃ration,and ATP production(P<0.05).CONCLUSION CTX and 4-HC exert significant cytotoxic effects on SH-SY5Y cells by disrupting cell membrane structure,impeding cell proliferation,and reducing cell viability.The mechanisms underlying these effects may involve intracellular DNA damage,disturbance of energy metabolism and mitochondrial dysfunction. 展开更多
关键词 cyclophosphamide 4-hydroperoxycyclophosphamide neurotoxicity energy metabolism
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α-芳基烯基膦酸酯的合成研究进展 被引量:2
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作者 施波超 方烨汶 +5 位作者 张莉 金小平 武永辉 方媚 杨宇飞 陈冲 《有机化学》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2016年第4期673-686,共14页
α-芳基烯基膦酸酯是一类重要的有机磷化合物,并且是合成其它有机磷分子的重要中间体.重点综述了过渡金属催化合成α-芳基烯基膦酸酯的进展,如磷氢化反应、C—C偶联反应和C—P偶联反应等,其它非金属催化条件下的几类合成方法也进行了概... α-芳基烯基膦酸酯是一类重要的有机磷化合物,并且是合成其它有机磷分子的重要中间体.重点综述了过渡金属催化合成α-芳基烯基膦酸酯的进展,如磷氢化反应、C—C偶联反应和C—P偶联反应等,其它非金属催化条件下的几类合成方法也进行了概述.对α-芳基烯基膦酸酯的有机转化及在膦胺霉素衍生物合成中的应用也进行了探讨. 展开更多
关键词 α-芳基烯基膦酸酯 芳基 磷氢化反应 偶联反应
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PH_3/SiH_4气流量比对N型a-Si:H薄膜微观结构与电学性能的影响
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作者 董丹 时惠英 +2 位作者 蒋百灵 鲁媛媛 张岩 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期1668-1673,共6页
采用等离子体增强化学气相沉积法制备了不同PH3/SiH4气流量比条件下的N型a-Si:H系列薄膜,研究了PH3/SiH4气流量比对N型a-Si:H薄膜微结构和电学性能的影响;同时,对最优PH3/SiH4气流量比条件下的N型a-Si:H薄膜进行了真空退火处理,以研究... 采用等离子体增强化学气相沉积法制备了不同PH3/SiH4气流量比条件下的N型a-Si:H系列薄膜,研究了PH3/SiH4气流量比对N型a-Si:H薄膜微结构和电学性能的影响;同时,对最优PH3/SiH4气流量比条件下的N型a-Si:H薄膜进行了真空退火处理,以研究薄膜晶体结构的改变对其性能的影响。结果表明:随着PH3/SiH4气流量比的增加,N型a-Si:H薄膜的非晶结构没有实质改变,但其电学性能得到明显改善;在最佳的PH3/SiH4气流量比为1.5%时制备的薄膜,经真空退火处理后,N型a-Si:H薄膜的有序度明显提高,电阻率比退火前降低3个数量级。退火处理对薄膜的晶体结构影响较大,从而对薄膜电学性能的改善更为显著。 展开更多
关键词 掺杂非晶硅薄膜 掺杂比 退火 载流子浓度 电阻率
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