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磁控溅射工艺参数对氧化钛薄膜晶体结构的影响 被引量：1
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作者 徐禄祥 冷永祥 黄楠 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期3143-3145,共3页
用非平衡磁控溅射技术制备氧化钛薄膜.研究了基体偏压、沉积温度、基体性质及溅射功率对薄膜晶体结构的影响.结果表明,到达基体的粒子的能量和离子/原子比是影响氧化钛薄膜晶体结构的主要因素;而到达基体的离子/原子比是生成完全金红石... 用非平衡磁控溅射技术制备氧化钛薄膜.研究了基体偏压、沉积温度、基体性质及溅射功率对薄膜晶体结构的影响.结果表明,到达基体的粒子的能量和离子/原子比是影响氧化钛薄膜晶体结构的主要因素;而到达基体的离子/原子比是生成完全金红石结构氧化钛薄膜的决定性因素. 展开更多
关键词 氧化钛薄膜 非平衡磁控溅射 晶体结构 离子/原子到达比
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