期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
在Si基体上外延生长Si—Ge薄膜的离子束气相沉积技术
1
作者
民众
《等离子体应用技术快报》
1997年第9期4-5,共2页
关键词
硅基体
硅
锗
薄膜
离子束气相沉积
半导体
下载PDF
职称材料
题名
在Si基体上外延生长Si—Ge薄膜的离子束气相沉积技术
1
作者
民众
出处
《等离子体应用技术快报》
1997年第9期4-5,共2页
关键词
硅基体
硅
锗
薄膜
离子束气相沉积
半导体
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
在Si基体上外延生长Si—Ge薄膜的离子束气相沉积技术
民众
《等离子体应用技术快报》
1997
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
