离子束溅射法在PET基防水透湿织物制造中的应用

利用离子束溅射法制备了防水透湿织物 ,发现溅射后织物的憎水性明显提高且随溅射能量的增大而增大 ,而束流密度对憎水性的影响呈复杂变化 ,织物原有的透湿性几乎没有改变。

双离子束溅射法制备铁氮薄膜

使用双离子束溅射法制得了铁氮薄膜 ,随着基片温度的变化 ,薄膜的成分是ε Fe2～ 3N、γ′ Fe4 N或是二相的混合物 ,薄膜的晶粒尺寸随基片温度的升高而增大。以振动样品磁强计(VSM)测定了薄膜的磁性能。另外 ,研究了在基片温度为 16 0℃时 ,改变主源中通入N2

离子束溅射法制备非晶态和晶态Ti-Nj贮氢薄膜合金

粉末贮氢合金作为一种功能材料在许多领域已有广泛应用。而薄膜贮氢合金是80年代国外新开发的功能材料。目前国外制备薄膜贮氢合金的方法主要有热蒸发法(包括闪蒸)和磁控溅射法。最近我们采用一种新颖的制备方法——离子束溅射法研制非晶态、晶态Ti-Ni薄膜合金。

离子束溅射法制备YBa_(2)Cu_(3)O_(7-x)超导薄膜

采用 YBa_2Cu_3O_(7-x)靶材,用离子束溅射法在多种衬底上得到了接近化学计量的YBa_2Cu_3O_(7-x)单相超导薄膜。

双离子束溅射淀积DLC膜的结构分析

用双离子束溅射法在５０℃以下的基底上淀积了类金刚石（ＤＬＣ）膜。对ＤＬＣ膜采用扫描电子显微镜、透射电子显微镜及拉曼谱仪进行了结构分析。通过对扫描电子显微镜观察，发现在ＤＬＣ膜中存在金刚石微晶。通过透射电子显微镜分析，确定金刚石微晶具有面心立方结构，计算出的晶格常数与标准值基本相同。通过拉曼光谱分析后，进一步验证了薄膜中金刚石微晶的存在并得出了膜中ＳＰ３Ｃ－Ｃ键所占的比例。

双离子束溅射Al_(2)O_(3)高温绝缘薄膜的氧分压研究

采用双离子束溅射沉积法(DIBSD)制备了用作高温绝缘层的Al_(2)O_(3)薄膜,分析了所制备Al_(2)O_(3)薄膜的表面和截面形貌,研究了溅射氧分压对薄膜氧铝元素比的影响,并进一步探讨了氧铝元素比对Al_(2)O_(3)薄膜高温绝缘性能的影响。研究结果表明:双离子束溅射沉积法制备的Al_(2)O_(3)薄膜表面平整度高,粗糙度约为2.86 nm,截面形貌致密,没有微裂纹、空隙等缺陷;溅射氧分压的提高可以增加所制备Al_(2)O_(3)薄膜的氧铝元素比例,18%溅射氧分压下制备的Al_(2)O_(3)薄膜O∶Al约为1.44,接近Al_(2)O_(3)化合物的元素比;18%氧分压溅射的Al_(2)O_(3)薄膜,在1000℃具有6.5 MΩ的绝缘电阻值,高温绝缘性能良好。

软X射线激光用分束镜研究

软X射线干涉测量是通过软X射线激光经过马赫-詹德干涉仪完成的，是测量驱动激光临界面附近等离子体状态的重要方法。本文基于软X射线多层膜的性能特点，指出软X射线干涉测量的干涉仪各光学元件的入射角越接近正入射越好，分束镜的设计应以其反射率和透过率的乘积为衡量标准。用离子束溅射法制作了类镍银13．9nm软X射线激光干涉测量所需的分束镜，实测表明其面形精度达到纳米量级，反射率和透过率乘积大于1．6％。

氮化碳薄膜的制备及研究现状

氮化碳具有良好的物理、化学性质和广泛的应用前景。目前主要采用化学气相沉积法、离子束溅射法、激光等离子体沉积和激光烧蚀、离子镀、离子注入法等制备方法。文中对氮化碳的结构、性质、制备、性能表征以及研究现状进行了比较详细的介绍。

基片温度对Fe-N化合物薄膜制备及磁性能的影响

用X射线衍射仪和振动样品磁强计研究了双离子束溅射法制备的Fe-N薄膜的相组成和磁性能。结果表明 ,基片温度对不同基片上制得的薄膜的结构和磁性能有显著影响。基片温度为250℃和300℃时 ,在 (111)硅片基片上制得无晶粒择优取向的单一γ′-Fe4N相 ;基片温度为160℃时 ,可在玻璃基片上制得具有 (100)面晶粒取向的单一γ′-Fe4N相薄膜。薄膜磁性测量表明 ,与无晶粒择优取向的γ′-Fe4N相比较 ,具有 (100)面晶粒取向的γ′-Fe4N相的矫顽力较低 ,易达到磁饱和 。

α-SiO_x∶C薄膜的结构与发光特性研究

采用双离子束共溅射法制备了SiOx∶C薄膜。对样品的XRD和TEM测试结果表明薄膜为非晶结构 ;PL谱图显示有两个发光峰分别位于 4 2 0nm(紫光 )、4 70nm(蓝绿光 )处 ;4 70nm处的发光峰位来自于硅基薄膜中富硅引起的中性氧空位缺陷 (O3 Si- SiO3 ) ,是由与氧原子配位的二价硅的单态以及三态 单态之间的跃迁所致 ,而与掺碳无关。进一步的XPS测试分析表明 ,4 2 0nm处的PL峰位可能来自于Si、C。

温度对非晶SiO_x薄膜的光致发光特性的影响

采用双离子束共溅射法制备的SiOx 薄膜为非晶结构 ,在室温下观察到了可见光致发光 (PL)现象 ,探测到样品有四个PL峰 ,它们的峰位分别为～ 32 0nm ,～ 4 10nm ,～5 6 0nm和～ 6 30nm ,且峰位和峰强随温度 (基片温度Ts 和退火温度Ta)的变化而发生变化 。

软X射线激光用分束镜研制

软X射线干涉测量是通过软X射线激光经过Mach-zehnder干涉仪完成的,是测量临界面附近等离子体状态的重要方法。基于软X射线多层膜的性能特点,指出软X射线干涉测量的干涉仪各光学元件的入射角越接近正入射越好,分束镜的设计应以其反射率和透过率的乘积为衡量标准。用离子束溅射法制作了类镍银13.9 nm软X射线激光干涉测量所需的分束镜,实测表明其面形精度达到纳米量级,反射率和透过率乘积大于1.6％。

[（Nd2Fe14B）x／M]n多层膜的组织及磁性能

通过离子束溅射法可制备[（Nd2Fe14B）x／M]n（M=Nb或Cr）多层膜（X表示厚度，n为层数，M为Nb或Cr）。台湾的Jai—Lin Tsai等人研究了隔离层（spacer layer）的作用及对薄膜的组织和性能的影响。