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离子束辅助薄膜沉积
被引量:
13
1
作者
张宇峰
张溪文
+1 位作者
任兆杏
韩高荣
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
2003年第11期40-43,共4页
离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法,可在低温下合成致密、均匀的薄膜。介绍了IBAD技术的概况,列举了具体应用领域,描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发,最后对IBAD的前景加以评论。
关键词
离子束辅助薄膜沉积
IBAD
薄膜
制备
等
离子
体
光学性能
下载PDF
职称材料
题名
离子束辅助薄膜沉积
被引量:
13
1
作者
张宇峰
张溪文
任兆杏
韩高荣
机构
浙江大学硅材料国家重点实验室
中国科学院等离子体物理研究所
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
2003年第11期40-43,共4页
基金
国家自然科学基金(No.60006003)
文摘
离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法,可在低温下合成致密、均匀的薄膜。介绍了IBAD技术的概况,列举了具体应用领域,描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发,最后对IBAD的前景加以评论。
关键词
离子束辅助薄膜沉积
IBAD
薄膜
制备
等
离子
体
光学性能
Keywords
ion beam assisted deposition,thin film,inductive coupling plasma
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
离子束辅助薄膜沉积
张宇峰
张溪文
任兆杏
韩高荣
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
2003
13
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