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离子束辅助薄膜沉积 被引量:13
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作者 张宇峰 张溪文 +1 位作者 任兆杏 韩高荣 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第11期40-43,共4页
离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法,可在低温下合成致密、均匀的薄膜。介绍了IBAD技术的概况,列举了具体应用领域,描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发,最后对IBAD的前景加以评论。
关键词 离子束辅助薄膜沉积 IBAD 薄膜制备 离子 光学性能
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