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后处理对离子液体电镀铝合金涂层耐蚀性能的影响 被引量:14
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作者 詹中伟 孙志华 +1 位作者 汤智慧 宇波 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2015年第11期1-6,共6页
为了获得最佳的耐蚀性能,研究了喷丸和化学氧化后处理方法对离子液体电镀铝合金涂层微观形貌和耐蚀性能的影响,并综合对比了离子液体电镀铝合金涂层、离子镀铝及电镀镉-钛合金三种涂镀层的耐蚀性和与铝合金接触腐蚀性能。研究结果显示,... 为了获得最佳的耐蚀性能,研究了喷丸和化学氧化后处理方法对离子液体电镀铝合金涂层微观形貌和耐蚀性能的影响,并综合对比了离子液体电镀铝合金涂层、离子镀铝及电镀镉-钛合金三种涂镀层的耐蚀性和与铝合金接触腐蚀性能。研究结果显示,喷丸处理对离子液体电镀铝合金涂层的耐蚀性没有明显的增强效果,三价铬化学氧化处理则能够大幅提高其耐蚀性能;离子液体电镀铝合金涂层耐蚀性优异,略低于电镀镉-钛合金涂层,略优于离子镀铝涂层;离子液体电镀铝合金涂层与7050铝合金阳极化试样接触腐蚀敏感性等级为A级,不会引起电偶腐蚀,与离子镀铝相当,优于电镀镉-钛合金涂层。 展开更多
关键词 离子液体电镀 喷丸 化学氧化 耐蚀性 接触腐蚀
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离子镀铝与离子液体电镀铝涂层性能对比研究 被引量:15
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作者 詹中伟 孙志华 +1 位作者 汤智慧 张骐 《装备环境工程》 CAS 2017年第5期74-81,共8页
目的对比研究离子镀铝和离子液体电镀铝两种涂层的性能。方法针对高强度钢表面环保表面处理的需求,对比研究300M钢表面离子镀铝和离子液体电镀铝两种涂层,采用扫描电子显微镜(SEM)、能谱(EDS)等对两种涂层的表面、断面微观形貌和成分进... 目的对比研究离子镀铝和离子液体电镀铝两种涂层的性能。方法针对高强度钢表面环保表面处理的需求,对比研究300M钢表面离子镀铝和离子液体电镀铝两种涂层,采用扫描电子显微镜(SEM)、能谱(EDS)等对两种涂层的表面、断面微观形貌和成分进行表征;采用原子力显微镜(AFM)对两种涂层表面三维形貌和粗糙度进行观察和测量;采用电偶腐蚀测试两种涂层与铝合金的电偶腐蚀性能;采用缺口试样拉伸方法检测两种涂层对300M钢基体氢脆性能的影响;采用5%Na Cl人工海水周浸试验的方法检测两种涂层的耐蚀性能,与电镀镉钛镀层进行对比,采用电化学方法对涂层试验前后的阻抗谱特性进行检测分析。结果两种涂层表面形貌存在较大差异,离子镀铝经过致密化处理后,表面为均匀的圆饼状形貌,致密度很高,粗糙度约为0.88μm,而离子液体电镀铝涂层表面则为圆顶状的凸起物组成,没有明显的孔洞缺陷,粗糙度约为0.71μm;电偶腐蚀测试显示,两种涂层都能够与铝合金相容连接;缺口试样的拉伸试验结果显示,两种涂层的对基体的氢脆性能没有影响;腐蚀试验结果显示,两种涂层对于300M钢基体都具有良好的保护效果,与传统的电镀镉钛相当,具备了未来替代镉类镀层的潜质。结论两种涂层均匀致密,没有明显的气孔、裂纹等缺陷,电偶腐蚀性能优异,对300M钢基体都不会产生氢脆隐患,耐蚀性能优异。 展开更多
关键词 离子镀铝 离子液体电镀 耐蚀性 氢脆性 抗电偶腐蚀
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电镀Ag-Pd合金镀层的研究进展 被引量:1
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作者 梁成浩 徐晶 +1 位作者 黄乃宝 王金渠 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2010年第11期22-26,共5页
Ag-Pd合金镀层具有良好的性能,在电子等工程领域有着广泛的应用。综述了近年来电镀Ag-Pd合金镀层的发展,重点介绍了电镀Ag-Pd合金卤化物体系及氨化合物体系脉冲电镀、离子液体电镀和光催化电镀等工艺,并展望了今后的发展趋势。
关键词 电镀Ag-Pd合金 脉冲电镀 离子液体电镀 光催化电镀
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300M钢表面铝基涂层防护性能对比研究 被引量:7
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作者 詹中伟 孙志华 彭超 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2015年第9期1-6,11,共7页
铝基涂层有望替代镉基镀层作为钢表面防护技术,综合对比了离子镀铝和离子液体电镀铝-锆合金涂层的形貌、电化学性能和耐蚀性能。采用扫描电子显微镜、原子力显微镜和能谱研究了两种铝基涂层表面及断面的微观形貌和成分;采用开路电位、... 铝基涂层有望替代镉基镀层作为钢表面防护技术,综合对比了离子镀铝和离子液体电镀铝-锆合金涂层的形貌、电化学性能和耐蚀性能。采用扫描电子显微镜、原子力显微镜和能谱研究了两种铝基涂层表面及断面的微观形貌和成分;采用开路电位、极化曲线等方法检测了两种铝基涂层的电化学性能;采用中性盐雾试验与交流阻抗谱结合方法研究了铝基涂层的耐蚀性,拟合分析了涂层结构的变化。研究结果表明,离子镀铝涂层和离子液体电镀铝-锆合金涂层具有不同的表面形貌,电化学性能有所差异,但是二者都具有十分优异的耐蚀性能。 展开更多
关键词 离子镀铝 离子液体电镀铝-锆合金 微观形貌 电化学 耐蚀性
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Electrodeposition of Al on AZ31 magnesium alloy in TMPAC-AlCl_3 ionic liquids 被引量:6
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作者 刘奎仁 柳泉 +1 位作者 韩庆 涂赣峰 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第9期2104-2110,共7页
Aluminum was electrodeposited with constant current on AZ31 magnesium alloy pretreated under optimized conditions from trimethyl-phenyl-ammonium chloride and anhydrous aluminum chloride (TMPAC-AlCl3) quaternary ammo... Aluminum was electrodeposited with constant current on AZ31 magnesium alloy pretreated under optimized conditions from trimethyl-phenyl-ammonium chloride and anhydrous aluminum chloride (TMPAC-AlCl3) quaternary ammonium room temperature ionic liquids with benzene as a co-solvent. The corrosion resistance of the as-deposited Al layers was evaluated in 3.5% NaCl solution by the electrochemical technologies. The Al depositions were characterized by scanning electron microscopy equipped with energy dispersion X-ray. The results show that the microstructures of the Al depositions have spherical equiaxed grains obtained at a high current density, and bulk grains at a low current density. The Al deposition obtained at 12.3 mA/cm2 has a smooth and compact surface. The electrochemical measurements indicate that the thicker Al deposition can more effectively protect the Mg substrate. The Al deposition with bulk grains hardly protects the AZ31 Mg substrate from corrosion owing to its porosity. 展开更多
关键词 magnesium alloy ELECTRODEPOSITION ionic liquids ALUMINUM CORROSION
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Influence of alkylpyridinium ionic liquids on copper electrodeposition from acidic sulfate electrolyte 被引量:3
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作者 张启波 华一新 +1 位作者 任艳旭 陈立源 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2013年第8期2096-2102,共7页
The effect of two alkylpyridinium ionic liquids (py-iLs) including N-butylpyridinium hydrogen sulfate (BpyHSO4) and N-hexylpyridinium hydrogen sulfate (HpyHSO4) on the kinetics of copper electrodeposition from a... The effect of two alkylpyridinium ionic liquids (py-iLs) including N-butylpyridinium hydrogen sulfate (BpyHSO4) and N-hexylpyridinium hydrogen sulfate (HpyHSO4) on the kinetics of copper electrodeposition from acidic sulfate solution was investigated by cyclic voltammetry and potentiodynamic polarization measurements. Results from cyclic voltammetry indicate that these py-iLs have a pronounced inhibiting effect on CuE+ electroreduction and there exists a typical nucleation and growth process. Kinetic parameters such as Tafel slope, transfer coefficient and exchange current density obtained from Tafel plots, lead to the conclusion that py-iLs inhibit the charge transfer by slightly changing the copper electrodeposition mechanism through their adsorption on the cathodic surface. In addition, scanning electron microscope (SEM) and X-ray diffraction analyses reveal that the presence of these additives leads to more leveled and fine-grained cathodic deposits without changing the crystal structure of the electrodeposited copper but strongly affects the crystallographic orientation by significantly inhibiting the growth of (111), (200) and (311) planes. 展开更多
关键词 copper electrodeposition ADDITIVES ionic liquids electrokinetic parameter ADSORPTION
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