镁合金表面离子辅助蒸镀铝膜的耐蚀性研究

采用离子辅助热蒸镀技术在AZ91D镁合金表面沉积了厚度为100μm的单层铝膜及厚度为(25+25)和(50+50)μm的双层铝膜,并对试样表面进行喷丸+化学转化后处理,研究了铝膜的结构和耐蚀防护性能。结果表明:不同工艺的镀铝试样表面铝膜形貌相似,晶粒清晰、细小,呈柱状紧密排列,存在少许孔缝;双铝膜层中有明显的界面,界面处致密且结合紧密。经后处理,膜层表面致密性提高,并生成一层耐蚀化学转化膜。采用双层工艺铝膜能大幅度提高基体的耐腐蚀性能,100μm单层膜镀铝试样的盐雾寿命为6 h,(25+25)和(50+50)μm双层膜镀铝试样的盐雾寿命分别为72和460 h。(25+25)和(50+50)μm的镀铝试样自腐蚀电流密度分别为3.86×10-6和4.3×10-7A/cm^2,比基体降低了2~3个数量级。

一种光学薄膜生产的新工艺—等离子体辅助蒸镀

离子辅助蒸镀可以改善薄膜的性能已为大家所熟知，并适用于多种镀膜材料的多层薄膜，但是由于这种工艺的总离子流较低以及商品离子流的束斑面积较小，故其幅照的基片范围是极其有限的，采用先进的等离子体源（ＡＰＳ），就克服了上述缺陷，其总的离子流可达到５Ａ，均匀辐照基片的范围达到的１ｍ＾２，这种等离子体源通常安装在箱式镀膜机上，ＡＰＳ除了用于等离子体辅助蒸镀外，还可用于化学气相淀积工艺，例如等离子体聚合。本文对用ＡＰＳ进行等离子体辅助蒸镀工艺的原理作了叙述，同时介绍了用这种工艺镀制介质多层膜，如截止滤光片和减反射膜，其波长不发生漂移，对有机基底材料为尤其明显，加固层、减反射膜和憎水层可以三者一起加到了有机基底表面，改善了这种基底性能，而且已进行了规模生产。

离子辅助制备凹印耐磨层工艺研究

针对凹印版电镀存在的污染和高能耗,采用射频感应偶合(ICP)离子源辅助电子束沉积技术在凹印镍版表面沉积了硬铬薄膜,通过控制离子源参数和加入过渡层来提高薄膜的与基体的结合力和显微硬度。研究了不同工艺条件制备薄膜的组织结构和性能,并与工厂实用的电镀样品做了对比。结果表明,优化工艺条件下的膜层,其硬度较高,表面均匀,与基体结合良好,可以达到甚至超过电镀样品;离子辅助和过渡层起着重要的作用。

光通信用光学薄膜与镀膜设备

阐述了镀制如 1 0 0 GHz、5 0 GHz DWDM滤光片及 GFF滤光片等滤光片的镀膜机必须具备的条件。介绍了本公司研制生产的 NBPF- 2型离子辅助蒸镀镀膜机。