离子辅助镀膜技术及其应用

离子辅助淀积技术对于改进光学薄膜的性质、改善薄膜的微结构、应力状态与表面形貌具有良好效果,从而得到许多具有新机能的薄膜。本文讲述丁离子辅助镀膜的实验装置,说明了使用此工艺镀制ZrO_2,薄膜样品的参数,并给出了光学特性测量、牢固度测量、表面形貌与划痕的实验结果。

走向光学工业应用的辅助镀膜霍尔等离子体源

论述了霍尔等离子体源的工作原理 ,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。本设计采用永久磁铁并利用极靴产生发散磁场 ,及沿轴向有较大梯度的磁场 。

用于离子束辅助镀膜的两种模式端部霍尔离子源的比较

介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的端部霍尔离子源的工作原理,并论述了端部霍尔离子源的离子能量、离子分布特性的测试方法;详细论述了电磁场和永久磁场两种模式下,端部霍尔离子源的工作稳定性、离子能量大小以及离子束分布特性的比较。

用于辅助镀膜的霍尔等离子体源

论述了该源的工作原理 ,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。设计采用了永久磁铁并利用极靴产生发散磁 ,沿轴向有较大梯度的磁场 ,又称该源为端部霍尔加速器。

End—Hall离子源及其辅助镀膜技术

由西安工业大学自行研制的End-Hall离子源，已经成功在离子辅助镀膜中镀制了ZnS，MgF2，SO2等薄膜，其光学性能，耐磨，耐酸，碱等性能大大提高，近几年来利用中空离子源采用CH4气体成功镀制出类金刚石薄膜红外线光学保护膜材料．

浅析离子辅助光学薄膜镀膜机的特性

真空镀膜产品的质量问题 ,一直是应用镀膜技术人员探索的课题。人们经过长期探索 ,采用离子束辅助沉积镀膜技术 ,改善了镀膜层牢固性 ,提高了反射率。本技术在通讯技术、太阳能应用、汽车、装潢等领域应用十分广泛。本文介绍了真空离子束辅助沉积镀膜设备特性。

关于辅助沉积霍尔离子源的几个问题

本文目的在于改进霍尔源的设计 ,实现宽能、大束流、低气耗、低污染、能自动化控制的新一代霍尔源。

光学镀膜用大束密均匀区离子源

介绍一个适用于光学镀膜用的直径为1 2 0 mm的大束密均匀区离子源的结构设计及性能参数 。

氧离子束流密度对Ta_2O_5薄膜的影响

利用氧离子辅助电子束蒸发沉积Ta2O5薄膜,在固定氧离子能量的条件下研究了氧离子束流密度对Ta2O5薄膜的微观结构、化学计量比和漏电流密度的影响。利用原子力显微镜和X射线衍射仪对Ta2O5薄膜微观结构进行表征研究,发现随着离子束流密度增大,沉积的Ta2O5薄膜致密性提高,粗糙度下降,但薄膜一直保持非晶态;同时能谱仪测试的结果表明,薄膜中O/Ta比例逐渐提高,直至呈现富氧状态。测量了不同薄膜样品的漏电流密度和击穿场强,发现随着离子束流密度增大,薄膜漏电流密度显著降低,击穿场强提高。总之,提高氧离子束流密度能够明显改善Ta2O5薄膜的微观结构和电学性能。

霍尔源用于光学镀膜

报道了用于辅助镀膜的无栅霍尔等离子体源的结构原理及性能指标 ,并从光学特性、显微特性和机械特性三方面着手 ,研究了使用霍尔源所做的单层TiO2 膜的成膜工艺与质量 研究表明 ,使用霍尔源辅助沉积的光学薄膜折射率明显提高 ,更加接近于块状材料 ,膜层结构比传统沉积手段更加致密 ,附着力也很高 同时用此项技术沉积了金属增强反射镜 ,试验结果与理论设计结果相符 。

制备光学薄膜的离子源技术概述

随着工业技术的发展及市场的需求,低能宽束离子源已广泛应用于微细加工的离子束刻蚀技术、材料改性的离子束注入混合技术和光学薄膜制备的离子束辅助镀膜技术。本文在多年该技术的实践与发展基础上,总结了制备光学薄膜的各种常用辅助镀膜离子源,其中包括考夫曼离子源、霍耳离子源、射频离子源、无栅离子源、阳极层离子源(均由我们实验室制造)的工作原理,设计要点,分析了使用时可能出现的问题及解决办法,最后从各种离子源的工作机制、工作特点、性价比、优缺点上予以比较。相信会有益于从事薄膜的工作者。

宽束冷阴极离子源

离子束辅助镀膜是近20年来发展起来的新技术．宽束冷阴极离子源是离子束辅助蒸发技术的关键装置，具有寿命长，无灯丝可以连续工作、结构简单、操作方便，可使用多种惰性及反应气体等特点．同时，它还可以很方便地安装于真空镀膜设备中而不破坏其原有的功能和性能．宽束冷阴极离子源用于离子束辅助蒸发，可以提高膜层与基底间的附着力，提高膜层强度，膜层填充密度及析射率，膜层的环境耐受性，如耐磨、耐潮、耐盐、酸、碱等性能均得到大幅度提高．

离子束辅助沉积真空镀膜技术制备阵列波导光栅波导材料

采用离子束辅助沉积（IBAD）真空镀膜技术制备阵列波导光栅（AWG）波导材料。以固体石英玻璃材料作为衬底，采用离子束辅助沉积真空镀膜制备SiO2膜层，以实现偏振不敏感的阵列波导光栅。实验表明器件的偏振相关性大大改善，其双折射B约为1．4077×10^-5，远小于二氧化硅-硅基波导结构阵列波导光栅的双折射B=2×10^-4。器件的热稳定性也得以改善，当工作环境的温度变化范围为-10-70℃时，采用此方法研制的阵列波导光栅最大波长漂移为1．144nm，小于普通的二氧化硅-硅基波导结构阵列波导光栅的波长漂移1．368nm。

808nm大功率半导体激光器腔面光学膜工艺

用电子束蒸发离子辅助镀膜方法为808nm大功率半导体激光器镀制了 SiO2/TiO2 高反膜及 SiO2 或 Al2O3减反膜,结果表明镀膜后激光器外微分量子效率明显提高(由 0 7 提高到 1 24),而且可在一定范围内调节阈值电流密度,器件寿命也有很大提高.对这种方法所镀制的 SiO2/TiO2 膜用作 808nm半导体激光器高反膜的可行性进行了分析和探讨,认为是一种可行的方法.

980nm半导体激光器可靠性的研究现状分析

本文介绍了提高980nm 半导体激光器可靠性的几种方案,并做了综台评述。进一步介绍了离子辅助镀膜技术在提高980nm激光器可靠性方面的应用。

光子嫩肤技术及相关滤光片

光子嫩肤技术是美容外科领域的最新技术 ,也是目前国际上的热门技术。本文简单概述了其工作原理及国内外进展 ,介绍了相关滤光片的设计及镀制工艺。

在固定比较片上用上反射监控方法生产窄带干涉滤光片

采用上反射法在可更换的固定比较片上对光学镀膜过程进行监控,有利于优化离子束辅助镀膜工艺。介绍了实现这种监控方法的独特系统结构,即采用直角棱镜和自准直光路分离监控光束;对工艺过程和主要结果进行了描述。该监控系统的控制精度优于千分之五,耦合层控制精度优于百分之五,得到了和透射法监控相同的结果。

DLC薄膜的表面形貌及其摩擦学性能研究

以真空蒸发碳离子束辅助镀膜法制备了DLC薄膜,通过原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)观察了该薄膜的表面形貌,对该薄膜的表面形貌对其摩擦学行为的影响进行了研究。研究发现:用真空蒸发碳离子束辅助镀膜的方法制备的类金刚石薄膜表面光滑,颗粒均匀,粒度小,摩擦因数降低;DLC薄膜比弹簧钢片及Ti6Al4V球基体耐磨;DLC薄膜的摩擦学性能在摩擦过程中会进一步改善。

光通信DWDM系统的100GHz窄带滤波片设计和研制

根据全介质F P多层介质薄膜滤波器的原理 ,设计并模拟计算了一种三腔 10 0GHz窄带通滤波片膜系结构 ,利用等离子辅助镀膜和光学监测技术 ,在F7玻璃衬底上完成了器件的制备 ,并解决了衬底减薄、抛光和后继镀膜等关键工艺 .光谱特性测量的结果表明 ,研制的器件将在光通信以及信息技术的其它领域具有重要的应用价值 .

可见光波段及1064nm波长处用于Glan-Taylor棱镜减反射膜

为了提高Glan-Taylor棱镜的透射率,研究了Glan-Taylor棱镜在可见光波段及1064nm波长处减反射膜膜的设计和制备.为提高薄膜和冰洲石晶体的附着力,采用沉积Al2O3为过渡层,ZrO2作缓冲层的方法,用单纯形优化的方法进行膜系优化设计.用电子束沉积和离子束辅助沉积的方法制备了多层减反射膜,并采用石英晶体振荡法监控膜厚和沉积速率.测量结果表明,在可见光波段及1064nm波长处的剩余反射率均小于0.5%经测试薄膜与冰洲石晶体的附着力性能良好.