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第二十讲 真空离子镀膜
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作者 张以忱 《真空》 CAS 2019年第1期77-80,共4页
(接2019年第6期第88页)7离子镀的特点及应用7.1离子镀的特点离子镀与蒸发镀、溅射镀相比的最大特点是荷能离子一边轰击基片与膜层,一边进行沉积,荷能离子的轰击作用产生一系列的效应,具体如下:1)膜/基结合力(附着力)强。
关键词 离子镀 抗磨损 离子镀装置 离子轰击 基片材料 蒸发源
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固体薄膜技术
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作者 李世直 《山东化工学院学报》 CAS 1980年第1期73-90,共18页
引言在金属、半导体、陶瓷、塑料等固体表面上,生长一层薄膜,使它具有与基体材料不同的物理及化学特性,以适应使用上的特殊要求,这就是固体薄膜技术。它是固体表而技术中的一个重要组成部分。这种技术在电子工业、光学和光通讯工业,能... 引言在金属、半导体、陶瓷、塑料等固体表面上,生长一层薄膜,使它具有与基体材料不同的物理及化学特性,以适应使用上的特殊要求,这就是固体薄膜技术。它是固体表而技术中的一个重要组成部分。这种技术在电子工业、光学和光通讯工业,能源开发和机械工业中,都已广泛应用。所谓薄膜,仅是相对而言,光学元件上的薄膜厚度一般存光的波长范同以内,而工程材料中所指的薄膜,厚度在几微米至几十微米的范围。 展开更多
关键词 固体薄膜 电子枪 基体温度 离子镀装置 阴极溅射 蒸发材料 成膜技术 阳极 薄膜技术 真空沉积法 化学气相沉积法 反应性气体
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