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微通道板及其发展趋势
被引量:
4
1
作者
刘术林
邓广绪
+1 位作者
张继胜
王长骏
《应用光学》
CAS
CSCD
2003年第B08期61-64,共4页
回顾微通道板发展历史及各阶段的主要技术特征。综述自90年代以来国内外微通道板的研发和生产情况.
关键词
微通道板
微光像增强器
噪声
分辨率
离子阻挡层膜
发展趋势
技术特征
电真空器件
下载PDF
职称材料
题名
微通道板及其发展趋势
被引量:
4
1
作者
刘术林
邓广绪
张继胜
王长骏
机构
西安应用光学研究所
出处
《应用光学》
CAS
CSCD
2003年第B08期61-64,共4页
文摘
回顾微通道板发展历史及各阶段的主要技术特征。综述自90年代以来国内外微通道板的研发和生产情况.
关键词
微通道板
微光像增强器
噪声
分辨率
离子阻挡层膜
发展趋势
技术特征
电真空器件
分类号
TN144 [电子电信—物理电子学]
TN223 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
微通道板及其发展趋势
刘术林
邓广绪
张继胜
王长骏
《应用光学》
CAS
CSCD
2003
4
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