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投影光刻物镜离焦工作状态分析
1
作者
李毅杰
《电子工业专用设备》
1995年第4期16-18,共3页
本文从投影光刻物镜的工作状态“离焦工作”出发,分析物镜离焦工作对光刻的影响,提出了相应的对策。
关键词
投影光刻物镜
离焦工作
曝光机
下载PDF
职称材料
题名
投影光刻物镜离焦工作状态分析
1
作者
李毅杰
机构
电子工业部第
出处
《电子工业专用设备》
1995年第4期16-18,共3页
文摘
本文从投影光刻物镜的工作状态“离焦工作”出发,分析物镜离焦工作对光刻的影响,提出了相应的对策。
关键词
投影光刻物镜
离焦工作
曝光机
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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1
投影光刻物镜离焦工作状态分析
李毅杰
《电子工业专用设备》
1995
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