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基于干涉条纹成像的测角系统设计及其离轴测量精度
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作者 宋莹 刘玉娟 《中国光学(中英文)》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第6期1397-1407,共11页
基于干涉条纹成像的测角系统测量精度随着测量范围的增大而下降,单纯提高精定位的细分倍数并不能提高测量精度。针对这一问题,本文围绕非成像系统的参数设计方法及大测量范围下的精度变化情况展开研究。建立了双光栅干涉系统及光楔阵列... 基于干涉条纹成像的测角系统测量精度随着测量范围的增大而下降,单纯提高精定位的细分倍数并不能提高测量精度。针对这一问题,本文围绕非成像系统的参数设计方法及大测量范围下的精度变化情况展开研究。建立了双光栅干涉系统及光楔阵列波前分割的数学模型,给出了近轴条件下非成像光学系统的参数设计方法。设计了一台一维高精度光学测角系统,并对该系统在整个测角范围内的测量误差进行了分析和计算。结果显示:利用本文提出的数学模型和方法,所设计的测角系统在[-5°,5°]的测量范围内,近轴区的测角分辨率为0.02″。随着测量范围的增大,干涉条纹相位非线性变化引起的精定位误差成为系统测角误差的主要来源,最大测量角度下精密轴的测量误差为0.42″。上述结果表明采用本文提出的模型和参数设计方法,可以设计出具有较高测角精度的光学测角系统。 展开更多
关键词 测角系统 干涉条纹成像 非成像光学设计 离轴测量精度
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