无籽西瓜无菌萌发条件的研究

研究了无籽西瓜在无菌条件下萌发的各种条件,得出:种子消毒污染率最低方法为250PPM的二氧化氯与0.15％升汞联合消毒,而以250PPM二氧化氯与2％次氯酸钠联合消毒方法种子的萌发率最高,无菌萌发的理想条件为无菌水加纱布。