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移相式点衍射干涉仪的几个关键技术
被引量:
11
1
作者
刘景峰
李艳秋
刘克
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第S1期179-182,共4页
极紫外光刻技术作为下一代光刻技术的最佳候选技术,为了得到衍射极限的分辨率,光学系统的RMS波像差应小于其工作波长的1/14,约为1 nm,这对检测技术提出了前所未有的要求。本文以应用于极紫外光刻光学系统波像差检测中的移相式点衍射干...
极紫外光刻技术作为下一代光刻技术的最佳候选技术,为了得到衍射极限的分辨率,光学系统的RMS波像差应小于其工作波长的1/14,约为1 nm,这对检测技术提出了前所未有的要求。本文以应用于极紫外光刻光学系统波像差检测中的移相式点衍射干涉仪为基础,对干涉仪中几个关键技术进行了讨论,并给出了相应的解决方法。
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关键词
极紫外光刻
波像差
移相式点衍射干涉仪
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职称材料
题名
移相式点衍射干涉仪的几个关键技术
被引量:
11
1
作者
刘景峰
李艳秋
刘克
机构
中国科学院电工研究所
出处
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第S1期179-182,共4页
基金
863IC装备专项
976计划(2003CB716204)资助项目
文摘
极紫外光刻技术作为下一代光刻技术的最佳候选技术,为了得到衍射极限的分辨率,光学系统的RMS波像差应小于其工作波长的1/14,约为1 nm,这对检测技术提出了前所未有的要求。本文以应用于极紫外光刻光学系统波像差检测中的移相式点衍射干涉仪为基础,对干涉仪中几个关键技术进行了讨论,并给出了相应的解决方法。
关键词
极紫外光刻
波像差
移相式点衍射干涉仪
Keywords
EUV lithography
wavefront error
phase-shifting point diffraction interferometer
分类号
TH744.3 [机械工程—光学工程]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
移相式点衍射干涉仪的几个关键技术
刘景峰
李艳秋
刘克
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
11
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