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半导体IC清洗技术 被引量:29
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作者 李仁 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第9期44-47,共4页
介绍了半导体IC制程中存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响和各种污染物的去除方法,并对湿法和干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。
关键词 半导体 IC 清洗技术 湿法清洗 RCA清洗 稀释化学法 IMEC清洗法 单晶片清洗 干法清洗
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