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稳定剂KI对化学镀Ni-Fe-P-B合金性能的影响
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作者 余祖孝 郝世雄 饶志由 《化学研究与应用》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期78-81,共4页
利用化学镀方法沉积铁合金系镀层,具有诱人的软磁性能,应用于计算机以及磁头材料等领域。近期研究较多的镀层主要有:Fe—P、Fe—Ni-P、Fe-Mo-B、Fe-W—B、Fe—Sn—B、Fe—Mo—W—B和Fe—Ni-P-B等体系,并取得了可喜的成果。但也存在... 利用化学镀方法沉积铁合金系镀层,具有诱人的软磁性能,应用于计算机以及磁头材料等领域。近期研究较多的镀层主要有:Fe—P、Fe—Ni-P、Fe-Mo-B、Fe-W—B、Fe—Sn—B、Fe—Mo—W—B和Fe—Ni-P-B等体系,并取得了可喜的成果。但也存在不少问题,化学镀液本身处于热力学不稳定状态,常要加入稳定剂,阻止H2PO2^-分解。目前常用稳定剂:(1)重金属离子,如Pb^2+等;(2)无机含氧酸根离子,如IO3^-等;(3)有机酸,如柠檬酸等; 展开更多
关键词 化学镀Ni-Fe-P-B合金 稳定剂(ki) 耐腐蚀性能 显微硬度 热处理
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