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用空心阴极放电离子镀方法在硅(110)结晶方向沉积TiN薄膜
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作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2002年第9期70-70,共1页
关键词 空心阴极放电离子镀方法 沉积 TIN薄膜 工艺参数 结晶取向
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空心阴极辉光放电包覆铜纳米粉末 被引量:1
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作者 李常明 雷海乐 +3 位作者 唐永建 罗江山 陈志梅 师红丽 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期1035-1037,共3页
简要叙述了自悬浮定向流方法制备铜纳米粉末的原理和包覆层薄膜的生长机理,采用空心阴极辉光放电对铜纳米粉末进行有机包覆,实验中CH4和H2的流量分别为6 ml/min和12 ml/min,工作电压为450 V,衬底与空心阴极的底端距离为2 cm,背景真空和... 简要叙述了自悬浮定向流方法制备铜纳米粉末的原理和包覆层薄膜的生长机理,采用空心阴极辉光放电对铜纳米粉末进行有机包覆,实验中CH4和H2的流量分别为6 ml/min和12 ml/min,工作电压为450 V,衬底与空心阴极的底端距离为2 cm,背景真空和工作气压分别为6 Pa和100 Pa,沉积速率为7.5 nm/min.用透射电镜(TEM)对铜纳米粉末进行了观察和分析,结果表明:铜纳米粉末呈球状,其粒径分布在10~100 nm之间, 平均粒径大小为50 nm;其包覆层的厚度大约为15 nm,而且该厚度可以通过调节空心阴极辉光放电的参数来控制. 展开更多
关键词 纳米粉末 自悬浮定向流方法 空心阴极辉光放电 有机包覆
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氮气快脉冲放电等离子体的光谱分析 被引量:4
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作者 王培南 郑家骠 +2 位作者 陈叔琦 潘崎 张豪 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 1998年第S1期97-98,共2页
对氮气快脉冲放电等离子体进行了光谱分析,并与其它放电方法进行了比较;对使用铝电极和石墨电极的放电光谱也进行了分析和比较。
关键词 脉冲放电离子 谱分析 石墨电极 快脉冲放电 空心阴极放电 电光谱 氮原子离子 氮化物 氮气气压 方法
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一种新型的离子镀用HCD枪
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作者 张树林 王继常 《东北工学院学报》 CSCD 1989年第2期163-166,共4页
介绍一种偏转磁场和电场相平行的HCD枪(平行场枪)的研制结果。该装置由四个电磁场简化成只有一个磁极,结构简单、性能稳定、调试方便,实践证明是合理的。
关键词 离子镀 阴极放电 空心
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空心阴极放电离子镀法沉积氮化钛涂层 被引量:2
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作者 解正国 石铭德 庄谨 《清华大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第2期103-108,共6页
论述了空心阴极放电离子镀的工作原理,KYF-600型离子镀膜机的特点,各工艺参数的选择与控制以及TiN涂层齿轮切削性能的试验与结果分析。试验表明,经镀覆TiN的高速钢齿轮刀具可提高寿命1至4倍,经济效益显著。
关键词 空心阴极 放电离子镀 氮化钛 涂层
原文传递
多元多层纳米膜技术
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作者 虞成亮 《表面工程资讯》 2006年第1期14-14,共1页
该技术是在离子镀技术上发展起来的一项镀膜技术。在真空室内采用真空弧光放电方法激发阴极材料.形成原子和离子,在电场作用下.原子和离子束高速轰击作为阳极的工件表面。与此同时向真空室内通入反应气体,即可在工件表面形成镀层。
关键词 镀膜技术 纳米 多层 工件表面 阴极材料 放电方法 电场作用 反应气体 离子镀 真空
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