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净化厂房中气相分子沾污(AMC)的来源和危害
被引量:
2
1
作者
潘文伟
蔡蕾
《电子与封装》
2012年第12期44-48,共5页
越来越多的研究发现,在半导体圆片加工净化厂房中,除了存在空气悬浮颗粒沾污外,还存在以气相或蒸汽形式存在的分子污染物(Airborne Molecular Contaminants,AMC)。随着特征尺寸(CD)的不断缩小,AMC将会越来越严重地影响圆片加工质量和成...
越来越多的研究发现,在半导体圆片加工净化厂房中,除了存在空气悬浮颗粒沾污外,还存在以气相或蒸汽形式存在的分子污染物(Airborne Molecular Contaminants,AMC)。随着特征尺寸(CD)的不断缩小,AMC将会越来越严重地影响圆片加工质量和成品率,并会影响净化厂房内工作人员的身体健康。文章介绍了AMC的分类、来源、危害性、控制标准和方法,希望以此引起人们对AMC的重视,并采取相应的控制措施。
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关键词
净化厂房
空气中分子污染物
酸性
分子
污染物
碱性
分子
污染物
可凝结的
分子
有机化合物
分子
掺杂物
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职称材料
题名
净化厂房中气相分子沾污(AMC)的来源和危害
被引量:
2
1
作者
潘文伟
蔡蕾
机构
华润上华半导体有限公司
中国电子科技集团公司第
出处
《电子与封装》
2012年第12期44-48,共5页
文摘
越来越多的研究发现,在半导体圆片加工净化厂房中,除了存在空气悬浮颗粒沾污外,还存在以气相或蒸汽形式存在的分子污染物(Airborne Molecular Contaminants,AMC)。随着特征尺寸(CD)的不断缩小,AMC将会越来越严重地影响圆片加工质量和成品率,并会影响净化厂房内工作人员的身体健康。文章介绍了AMC的分类、来源、危害性、控制标准和方法,希望以此引起人们对AMC的重视,并采取相应的控制措施。
关键词
净化厂房
空气中分子污染物
酸性
分子
污染物
碱性
分子
污染物
可凝结的
分子
有机化合物
分子
掺杂物
Keywords
clean room
airborne molecular contaminants(AMC)
molecular acids(MA)
molecular base(MB)
molecular condensable(MC)
molecular dopants(MD)
分类号
TN305.97 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
净化厂房中气相分子沾污(AMC)的来源和危害
潘文伟
蔡蕾
《电子与封装》
2012
2
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