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高比表面积窄孔分布氧化铝的制备 Ⅰ.沉淀条件的影响 被引量:28
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作者 杜明仙 翟效珍 +3 位作者 李源 李林东 朱华青 谭长瑜 《催化学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第5期465-468,共4页
以硫酸铝液为原料 ,以氨水、氢氧化钠和铝酸钠为碱沉淀剂 ,采用pH摆动法制备了高比表面积、大孔径、窄孔分布、大孔体积氧化铝 ,考察了沉淀剂、沉淀温度及沉淀时酸侧pH值对氧化铝物性的影响 ,并对 pH摆动法与等 pH沉淀法的结果进行了比... 以硫酸铝液为原料 ,以氨水、氢氧化钠和铝酸钠为碱沉淀剂 ,采用pH摆动法制备了高比表面积、大孔径、窄孔分布、大孔体积氧化铝 ,考察了沉淀剂、沉淀温度及沉淀时酸侧pH值对氧化铝物性的影响 ,并对 pH摆动法与等 pH沉淀法的结果进行了比较 .结果表明 ,通过改变制备参数可以获得高比表面积、大孔体积的氧化铝 ,当沉淀温度为 70℃ ,pH摆动 3或 4次时 ,氧化铝的孔体积可高达 1 0ml/ g,比表面积仍大于 30 0m2 / g.用 pH摆动法制得的样品比用等 pH沉淀法制得的样品容易酸溶 ,对挤压成型有利 .不同样品在酸溶液中的分散性表明 ,用氨水沉淀剂可获得相对较小的沉淀粒子 .改变沉淀时酸侧的pH值 。 展开更多
关键词 氧化铝 比表面积 窄孔分布 pH摆动法 沉淀条件 硫酸铝 催化剂 载体
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高比表面积窄孔分布氧化铝的制备 Ⅱ.添加硅的影响 被引量:5
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作者 杜明仙 翟效珍 +3 位作者 李源 李林东 朱华青 谭长瑜 《催化学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第5期469-472,共4页
采用 pH摆动法 ,以硫酸铝为铝源 ,以氢氧化钠为碱沉淀剂 ,考察了添加SiO2 对沉淀氧化铝物性的影响 .通过孔结构分析、粒度测定和电镜观察等证实 ,加入少量SiO2 可使沉淀粒子分散、变小 ,颗粒相对均匀 ,从而提高了氧化铝的比表面积和孔... 采用 pH摆动法 ,以硫酸铝为铝源 ,以氢氧化钠为碱沉淀剂 ,考察了添加SiO2 对沉淀氧化铝物性的影响 .通过孔结构分析、粒度测定和电镜观察等证实 ,加入少量SiO2 可使沉淀粒子分散、变小 ,颗粒相对均匀 ,从而提高了氧化铝的比表面积和孔集中的程度 .当加入 2 5 %的SiO2 时 ,pH仅摆动 2次 ,即可使氧化铝粉体的孔体积高达 1 2 ml/ g,比表面积达 380m2 / g.这类氧化铝的孔结构适宜 ,粒子小 ,易直接成型为孔径集中和耐压强度好的载体 ,故用于重油高压加氢脱氮反应具有较好的性能 .沉淀时酸侧 pH值降低 ,尽管沉淀氧化铝的孔径向较小的方面集中 ,但此时沉淀粒子呈紧密堆积 ,颗粒变大 ,比表面积下降 ,氧化铝沉淀粒子的结构发生改变 . 展开更多
关键词 氧化铝 比表面积 窄孔分布 表征 重油 加氢脱氮 催化剂 添加剂
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窄孔分布介孔分子筛MSU-1的合成(英文) 被引量:2
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作者 李苑 YANGJun +8 位作者 TANGYu BAILiang XIANGHong-wei LIYong-wang 杨骏 唐渝 白亮 相宏伟 李永旺 《燃料化学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期171-173,共3页
以水玻璃为硅源,在pH=3以下合成MSU X介孔材料的报道很少,本文将pH范围扩展至0 78,并从廉价的水玻璃和工业级非离子表面活性剂AEO9出发,用二步法合成出介孔分子筛MSU 1。首先将无机前驱体和非离子表面活性剂在介稳态下(pH≈2,t≈2℃)混... 以水玻璃为硅源,在pH=3以下合成MSU X介孔材料的报道很少,本文将pH范围扩展至0 78,并从廉价的水玻璃和工业级非离子表面活性剂AEO9出发,用二步法合成出介孔分子筛MSU 1。首先将无机前驱体和非离子表面活性剂在介稳态下(pH≈2,t≈2℃)混合,然后调pH至所需值(0 78~3 94),在该pH值下进行二氧化硅缩聚。合成出的MSU 1具有孔分布窄,短程有序度提高,颗粒呈微米级等特点。其中在pH=1 98下合成的MSU 1具有最薄的孔壁、最大的比表面和孔容;在pH=0 78下合成的MSU 1具有最厚的孔壁、最大的孔径和d100值。随着pH值的增大,孔壁厚度先减小后增大。 展开更多
关键词 窄孔分布 分子筛 MSU-1 合成 水玻璃 硅酸钠 非离子表面活性剂
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