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CuW/CrCu自力型整体触头界面还原及结合强度
被引量:
1
1
作者
范志康
梁淑华
肖鹏
《电工材料》
CAS
2003年第4期13-17,共5页
自力型CuW/CrCu整体弧触头的立式熔接工艺是指在立式气氛可控烧结炉内对CuW触头部分与尾部CrCu熔结的过程,是制造整体触头的关键技术。Cuw/CrCu整体弧触头的立式熔接首先要对CuW合金的界面进行还原处理,以清除在熔接前由于种种原因界面...
自力型CuW/CrCu整体弧触头的立式熔接工艺是指在立式气氛可控烧结炉内对CuW触头部分与尾部CrCu熔结的过程,是制造整体触头的关键技术。Cuw/CrCu整体弧触头的立式熔接首先要对CuW合金的界面进行还原处理,以清除在熔接前由于种种原因界面上出现的氧化夹杂等,确保界面的良好结合;尾部CrCu的Cr含量是影响CuW/CrCu界面结合强度的另一重要因素,适当的Cr含量是必须的。
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关键词
CUW
CrCu
自力型整体触头
立式熔接工艺
界面
还原
结合强度
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职称材料
题名
CuW/CrCu自力型整体触头界面还原及结合强度
被引量:
1
1
作者
范志康
梁淑华
肖鹏
机构
西安理工大学材料科学与工程学院
出处
《电工材料》
CAS
2003年第4期13-17,共5页
文摘
自力型CuW/CrCu整体弧触头的立式熔接工艺是指在立式气氛可控烧结炉内对CuW触头部分与尾部CrCu熔结的过程,是制造整体触头的关键技术。Cuw/CrCu整体弧触头的立式熔接首先要对CuW合金的界面进行还原处理,以清除在熔接前由于种种原因界面上出现的氧化夹杂等,确保界面的良好结合;尾部CrCu的Cr含量是影响CuW/CrCu界面结合强度的另一重要因素,适当的Cr含量是必须的。
关键词
CUW
CrCu
自力型整体触头
立式熔接工艺
界面
还原
结合强度
Keywords
CuW/CrCu
interface
reduction
bonding strength
分类号
TM503.5 [电气工程—电器]
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职称材料
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作者
出处
发文年
被引量
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1
CuW/CrCu自力型整体触头界面还原及结合强度
范志康
梁淑华
肖鹏
《电工材料》
CAS
2003
1
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