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基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱用于高分子端基修饰反应的监控
被引量:
1
1
作者
陈友存
陈文章
刘光祥
《分析化学》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第1期127-127,共1页
关键词
聚甲
基
丙烯酸丁酯
水解
反应
末
端
酯
基
基
质辅助激光解吸电离飞行时间质谱
高分子
端基修饰反应
下载PDF
职称材料
题名
基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱用于高分子端基修饰反应的监控
被引量:
1
1
作者
陈友存
陈文章
刘光祥
机构
安庆师范学院化学系
中国矿业大学北京校区
出处
《分析化学》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第1期127-127,共1页
基金
国家自然科学基金资助项目 (No .2 0 0 3 5 0 10
2 0 1710 0 1)
关键词
聚甲
基
丙烯酸丁酯
水解
反应
末
端
酯
基
基
质辅助激光解吸电离飞行时间质谱
高分子
端基修饰反应
分类号
O657.63 [理学—分析化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱用于高分子端基修饰反应的监控
陈友存
陈文章
刘光祥
《分析化学》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
1
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职称材料
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