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等平面化SiC MESFET的研制
被引量:
2
1
作者
杨霏
陈昊
+8 位作者
潘宏菽
默江辉
商庆杰
李亮
闫锐
冯震
杨克武
蔡树军
姚素英
《微纳电子技术》
CAS
2008年第8期440-443,483,共5页
在原有设计以及工艺的基础上,采用了器件表面等平面化处理及侧壁钝化工艺,器件工作电压大幅度提高,截止漏电流降低约两个数量级,跨导提高1.5mS/mm。2GHz下测试,微波功率附加效率提高10%左右,增益平均提高了2dB,在VDS=60V的条件下单管功...
在原有设计以及工艺的基础上,采用了器件表面等平面化处理及侧壁钝化工艺,器件工作电压大幅度提高,截止漏电流降低约两个数量级,跨导提高1.5mS/mm。2GHz下测试,微波功率附加效率提高10%左右,增益平均提高了2dB,在VDS=60V的条件下单管功率输出达到了86.5W。经过内匹配和功率合成研制成大功率的SiC脉冲功率管的综合性能较好,在250W的输出功率下,器件仍然保持高达10.5dB的高增益,功率附加效率30%。台阶仪和扫描电镜观测表明,台阶高度已经大大降低,侧壁得到了钝化,尖锐突起和凹坑都已经变得平缓。
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关键词
碳
化
硅(SIC)
金属消特基势垒场效应晶体管
高增益
功率附加效率
大功率
等平面化
侧壁钝
化
下载PDF
职称材料
题名
等平面化SiC MESFET的研制
被引量:
2
1
作者
杨霏
陈昊
潘宏菽
默江辉
商庆杰
李亮
闫锐
冯震
杨克武
蔡树军
姚素英
机构
天津大学电子信息工程学院
专用集成电路国家重点实验室
中国电子科技集团公司第十三研究所
出处
《微纳电子技术》
CAS
2008年第8期440-443,483,共5页
基金
国防科技重点实验室基金(9140C0607010704
0904C0607010705)
文摘
在原有设计以及工艺的基础上,采用了器件表面等平面化处理及侧壁钝化工艺,器件工作电压大幅度提高,截止漏电流降低约两个数量级,跨导提高1.5mS/mm。2GHz下测试,微波功率附加效率提高10%左右,增益平均提高了2dB,在VDS=60V的条件下单管功率输出达到了86.5W。经过内匹配和功率合成研制成大功率的SiC脉冲功率管的综合性能较好,在250W的输出功率下,器件仍然保持高达10.5dB的高增益,功率附加效率30%。台阶仪和扫描电镜观测表明,台阶高度已经大大降低,侧壁得到了钝化,尖锐突起和凹坑都已经变得平缓。
关键词
碳
化
硅(SIC)
金属消特基势垒场效应晶体管
高增益
功率附加效率
大功率
等平面化
侧壁钝
化
Keywords
SiC (silicon carbide)
MESFET (metal-semiconductor field-effect transistor)
high power gain
PAE (power added-efficiency)
high power
nearly planarization
sidewall passivation
分类号
TN386.3 [电子电信—物理电子学]
TN304.24 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
等平面化SiC MESFET的研制
杨霏
陈昊
潘宏菽
默江辉
商庆杰
李亮
闫锐
冯震
杨克武
蔡树军
姚素英
《微纳电子技术》
CAS
2008
2
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职称材料
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