离子束抛光轨迹段划分及进给速度求解

针对光学元件高精度确定性加工,提出并实现了基于自适应步长算法实现离子束抛光轨迹段划分及进给速度求解。首先,对常规的等步长算法实现抛光轨迹段划分所存在的诸多问题进行了重点分析。其次,针对这些问题,提出了等效驻留时间轮廓计算方法及自适应步长算法,有效地避免了等步长法所存在的问题。然后,采用新算法对600mm平面反射元件进行了实例计算,经加工后,元件98%口径内的面形精度峰谷(PV)值由110.22nm(λ/5.7,λ=632.8nm)收敛至4.81nm(λ/131.6)。最后,基于自研的离子束抛光设备,实现了光学元件在100mm口径内面形PV值小λ/70的超高面形精度。