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微波等离子体化学气相沉积法低温制备直纳米碳管膜 被引量:11
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作者 王升高 汪建华 +3 位作者 张保华 王传新 马志斌 满卫东 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2003年第3期329-332,共4页
Among the three main methods for the s ynthesis of carbon nanotubes(CNTs ),chemical vapor deposition(CVD)has received a great deal of attentio n since CNTs can be synthesized at sig nificantly low temperature.Plasma c... Among the three main methods for the s ynthesis of carbon nanotubes(CNTs ),chemical vapor deposition(CVD)has received a great deal of attentio n since CNTs can be synthesized at sig nificantly low temperature.Plasma chemical vapor deposition me thods can synthesize CNTs at lower te mperature than thermal CVD.But in th e usual catalytic growth of CNTs by CVD,CNTs are often tangled together and have some defects.These will limit t he property research and potential applications.How to synthesize the str aight CNTs at low temperature become s a challenging issue.In this letter,s traight carbon nanotube(CNT)films were achieved by microwave pla sma chemical vapor deposition(MWPCVD)catalyzed by round Fe-Co-Ni alloy particles on Ni substrate at 610℃.It wa s found that,in our experimental condition,the uniform growth rate along the circumference of round alloy particles plays a very important role in the gro wth of straight CNT films.And because the substrate is conducting,the straight CNT films grown at low temperature ma y have the benefit for property research and offer the possibility to use t hem in the future applications. 展开更多
关键词 直纳米碳管膜 Fe-Co-Ni合金 微波等离子体化学气相沉积法 低温 镍基板
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电子回旋共振—微波等离子体化学气相沉积法制备a-C:H(N)薄膜 被引量:2
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作者 李新 唐祯安 +1 位作者 马国佳 邓新绿 《真空》 CAS 北大核心 2003年第5期28-30,共3页
采用电子回旋共振 -微波等离子体化学气相沉积技术 ,使用 CH4 和 N2 混合气作为反应气体 ,在硅衬底上制备掺氮含氢非晶碳 (a- C∶ H(N) )薄膜。紫外 Ram an光谱证实了薄膜的类金刚石特性 ;傅立叶变换红外光谱表明薄膜中存在 CH和 CN键... 采用电子回旋共振 -微波等离子体化学气相沉积技术 ,使用 CH4 和 N2 混合气作为反应气体 ,在硅衬底上制备掺氮含氢非晶碳 (a- C∶ H(N) )薄膜。紫外 Ram an光谱证实了薄膜的类金刚石特性 ;傅立叶变换红外光谱表明薄膜中存在 CH和 CN键结构。采用原子力显微镜 (AFM)观察薄膜的微观表面形貌 ,结果表明薄膜表面光滑。论文详细叙述了薄膜制备工艺 ,对测试结果进行了分析讨论 。 展开更多
关键词 电子回旋共振-微波等离子体化学气相沉积法 制备 CH4 N2 非晶碳薄膜 紫外Raman光谱 原子力显微镜
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微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石管及其表征
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作者 高旭辉 魏俊俊 吕反修 《电子显微学报》 CAS CSCD 2005年第4期383-383,共1页
关键词 微波等离子体化学气相沉积法 金刚石 制备 表征 钨丝 焦点
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微波等离子体化学气相沉积法合成纳米碳管
4
作者 王升高 汪建华 +2 位作者 马志彬 满卫东 王传新 《新技术新工艺》 北大核心 2002年第5期41-42,共2页
长期以来等离子体化学气相沉积法广泛用于薄膜材料的合成。自纳米碳管被发现以后 ,该方法已成为纳米碳管合成的一种非常重要的手段。本研究以 1 0 X和 1 3X分子筛为载体 ,在纳米钴颗粒的催化作用下 ,利用微波等离子体化学气相沉积法在... 长期以来等离子体化学气相沉积法广泛用于薄膜材料的合成。自纳米碳管被发现以后 ,该方法已成为纳米碳管合成的一种非常重要的手段。本研究以 1 0 X和 1 3X分子筛为载体 ,在纳米钴颗粒的催化作用下 ,利用微波等离子体化学气相沉积法在较低的温度条件下合成了纳米碳管。 展开更多
关键词 纳米碳管 微波等离子体化学气相沉积法 分子筛 合成
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微波等离子体化学气相沉积法制备大尺寸单晶金刚石的研究进展 被引量:4
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作者 牟草源 李根壮 +4 位作者 谢文良 王启亮 吕宪义 李柳暗 邹广田 《电子与封装》 2023年第1期30-39,共10页
金刚石作为一种超宽禁带半导体,是下一代功率电子器件和光电子器件最有潜力的材料之一。然而,高品质、大面积(大于2英寸)单晶衬底的制备仍是金刚石器件产业应用亟待解决的问题。介绍了目前受到广泛关注的微波等离子体化学气相沉积法(MPC... 金刚石作为一种超宽禁带半导体,是下一代功率电子器件和光电子器件最有潜力的材料之一。然而,高品质、大面积(大于2英寸)单晶衬底的制备仍是金刚石器件产业应用亟待解决的问题。介绍了目前受到广泛关注的微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)获得大尺寸金刚石单晶衬底的技术方案,即单颗金刚石生长、拼接生长以及异质外延生长。综述了大尺寸单晶金刚石外延生长及其在电子器件领域应用的研究进展。总结了大尺寸单晶金刚石制备过程中面临的挑战并提出了潜在的解决方案。 展开更多
关键词 金刚石 微波等离子体化学气相沉积法 三维生长 拼接生长 异质外延
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微波等离子体化学气相沉积法低温合成纳米碳管 被引量:12
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作者 王升高 汪建华 秦勇 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第5期957-960,共4页
纳米碳管的低温合成是纳米碳管合成的一个重要研究方向 .在众多的合成方法中 ,化学气相沉积法 ,特别是等离子体化学气相沉积法在纳米碳管的低温合成方面意义重大 .本研究利用溶胶 -凝胶法结合等离子体还原 ,获得了负载在SiO2 上的纳米... 纳米碳管的低温合成是纳米碳管合成的一个重要研究方向 .在众多的合成方法中 ,化学气相沉积法 ,特别是等离子体化学气相沉积法在纳米碳管的低温合成方面意义重大 .本研究利用溶胶 -凝胶法结合等离子体还原 ,获得了负载在SiO2 上的纳米金属钴颗粒 .以甲烷为碳源、氢气为载气 ,在纳米金属钴颗粒的催化作用下 ,利用微波等离子体化学气相沉积法在低于 5 0 展开更多
关键词 纳米碳管 微波等离子体 化学沉积 低温合成 结构表征
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等离子体化学气相沉积法合成石英玻璃(英文) 被引量:12
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作者 宋学富 孙元成 +2 位作者 钟海 王宏杰 顾真安 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期531-534,共4页
用高频等离子体作为热源,采用化学气相沉积法合成了石英玻璃样品。实验分别使用O2和空气作为等离子体电离气体和冷却保护气体,改变等离子体电离工作气体种类时,等离子体火焰长度和石英玻璃沉积温度变化较大,而灯具冷却保护气体的改变对... 用高频等离子体作为热源,采用化学气相沉积法合成了石英玻璃样品。实验分别使用O2和空气作为等离子体电离气体和冷却保护气体,改变等离子体电离工作气体种类时,等离子体火焰长度和石英玻璃沉积温度变化较大,而灯具冷却保护气体的改变对等离子火焰长度和石英玻璃沉积温度的影响不大。当等离子体电离气体和灯具保护气体均为O2时,等离子体火焰长度为12cm,石英基体温度为1300℃,当等离子体电离气体和灯具保护气体均为空气时,等离子体火焰长度可达24cm,石英基体温度升高到1840℃,可确保气相沉积过程进行,合成的石英玻璃在波长190nm处光透过率达84%,羟基含量3.5×10–6,可达到全光谱透过的要求。 展开更多
关键词 等离子火焰 化学沉积 石英玻璃
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螺旋波等离子体化学气相沉积法制备纳米碳化硅薄膜 被引量:3
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作者 于威 王保柱 +2 位作者 孙运涛 韩理 傅广生 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期272-275,共4页
采用螺旋波等离子体化学气相沉积 (HWP CVD)技术在Si(10 0 )和石英衬底上合成了具有纳米结构的碳化硅薄膜。通过X射线衍射 (XRD)、傅立叶红外透射 (FTIR)和原子力显微镜 (AFM)等技术对所制备薄膜的结构、组分和形貌进行了分析 ,利用光... 采用螺旋波等离子体化学气相沉积 (HWP CVD)技术在Si(10 0 )和石英衬底上合成了具有纳米结构的碳化硅薄膜。通过X射线衍射 (XRD)、傅立叶红外透射 (FTIR)和原子力显微镜 (AFM)等技术对所制备薄膜的结构、组分和形貌进行了分析 ,利用光致发光技术研究了样品的发光特性。分析表明 ,在 70 0℃的衬底温度和 1.33Pa的气压条件下所制备纳米SiC薄膜的平均颗粒度在 3nm以下 ,红外透射谱主要表现为Si C吸收。结果说明HWP CVD为制备高质量纳米SiC薄膜的有效技术 ,所制备样品呈现出室温短波长可见发光特性 ,发光谱主峰位于 395nm附近。 展开更多
关键词 螺旋波等离子体 化学沉积 制备 纳米碳化硅薄膜
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热阴极直流辉光等离子体化学气相沉积法制备纳米晶金刚石膜的研究 被引量:2
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作者 彭鸿雁 赵万邦 +2 位作者 赵立新 姜宏伟 孙丽 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期6-9,17,共5页
采用热阴极直流辉光等离子体CVD方法,在氩气/甲烷/氢气混合气氛中制备出纳米晶金刚石膜,研究不同氩气/氢气流量比对纳米晶金刚石膜沉积的影响。对样品形貌的SEM测试表明,随着氩气与氢气流量比由40/160增加到190/10,膜中金刚石晶粒尺寸由... 采用热阴极直流辉光等离子体CVD方法,在氩气/甲烷/氢气混合气氛中制备出纳米晶金刚石膜,研究不同氩气/氢气流量比对纳米晶金刚石膜沉积的影响。对样品形貌的SEM测试表明,随着氩气与氢气流量比由40/160增加到190/10,膜中金刚石晶粒尺寸由约600nm减小到约30nm。金刚石膜Raman谱中金刚石特征峰逐渐减弱,石墨G峰逐渐增强,反式聚乙炔特征峰及其伴峰强度加大。等离子体光谱分析表明C2是生长纳米晶金刚石膜的主要活性基团。 展开更多
关键词 纳米晶金刚石膜 热阴极直流辉光等离子体化学沉积 /甲烷/氢混合
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等离子体化学气相沉积法及其最新发展 被引量:2
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作者 徐文国 金钦汉 《真空》 CAS 北大核心 1989年第6期54-60,共7页
本文将对等离子体的性质、等离子体对化学气相沉积的作用、PCVD反应器以及 新近发展起来的微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)的特点和应用作一综述。期 望引起国内同行对这一崭新领域的关注,把我国PCVD特别是MPCV... 本文将对等离子体的性质、等离子体对化学气相沉积的作用、PCVD反应器以及 新近发展起来的微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)的特点和应用作一综述。期 望引起国内同行对这一崭新领域的关注,把我国PCVD特别是MPCVD的研究工 作推向前进。 展开更多
关键词 等离子体 化学沉积 沉积
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高频等离子体化学气相沉积法制氮化硅的化学平衡计算 被引量:1
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作者 洪若瑜 郑国梁 李洪钟 《化工冶金》 EI CSCD 北大核心 1997年第4期295-302,共8页
基于Gibbs自由能最小原理,开发了热力学通用程序,分析了以Ar为载气、SiCl4和NH3为原料、在高频等离子体化学气相沉积反应器中制备Si3N4超细粉的化学热力学过程得到了在典型条件下系统的主要组成,分析了温度、... 基于Gibbs自由能最小原理,开发了热力学通用程序,分析了以Ar为载气、SiCl4和NH3为原料、在高频等离子体化学气相沉积反应器中制备Si3N4超细粉的化学热力学过程得到了在典型条件下系统的主要组成,分析了温度、反应物浓度对平衡组成的影响通过热力学模拟,发现当SiCl4进料口在前,NH3进料口在后,且两个进料口均在高频等离子体尾焰处时,经脱NH4Cl的产物中氮含量较高。 展开更多
关键词 氮化硅 等离子体 化学沉积 化学平衡
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微波等离子体化学气相沉积法制备石墨烯的研究进展 被引量:3
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作者 涂昕 满卫东 +1 位作者 游志恒 阳朔 《真空与低温》 2014年第2期63-70,76,共9页
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法具有低温生长、基底材料选择广泛、容易掺杂等优点,是大面积、高速率、高质量石墨烯制备的首选。首先通过比较制备石墨烯的几种主要CVD方法得出MPCVD法的优势,然后阐述了MPCVD法制备石墨烯的研究,最... 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法具有低温生长、基底材料选择广泛、容易掺杂等优点,是大面积、高速率、高质量石墨烯制备的首选。首先通过比较制备石墨烯的几种主要CVD方法得出MPCVD法的优势,然后阐述了MPCVD法制备石墨烯的研究,最后介绍了MPCVD法制备的石墨烯的应用并对MPCVD法制备石墨烯的发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 微波等离子体化学沉积 石墨烯 研究 应用
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微波等离子体化学气相沉积法制备的新型纳米片状碳膜(英文) 被引量:1
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作者 金哲 顾广瑞 《延边大学学报(自然科学版)》 CAS 2009年第3期223-226,共4页
在甲烷和氢气的混合系统中,利用石英管型微波等离子体化学气相沉积方法,在硅片上制备了新型的纳米片状碳膜.利用场发射扫描电子显微镜和拉曼光谱仪对碳膜的结构进行了表征,结果表明碳膜是由长1μm、宽100 nm的纳米碳片相互缠绕而成.最... 在甲烷和氢气的混合系统中,利用石英管型微波等离子体化学气相沉积方法,在硅片上制备了新型的纳米片状碳膜.利用场发射扫描电子显微镜和拉曼光谱仪对碳膜的结构进行了表征,结果表明碳膜是由长1μm、宽100 nm的纳米碳片相互缠绕而成.最后简单讨论了新型碳纳米片的形成机理. 展开更多
关键词 碳膜 纳米片 微波等离子体化学沉积 场发射扫描电子显微镜 拉曼光谱
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微波等离子体化学气相沉积法制备C_3N_4薄膜的研究
14
作者 张永平 顾有松 +4 位作者 常香荣 田中卓 时东霞 张秀芳 袁磊 《真空电子技术》 2000年第1期52-55,共4页
本文采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),高纯N2(99.999%)和CH4(99.9%)作反应气体,在多晶Pt(99.99%)基片上沉积C3N4薄膜。X-射线能谱(EDX)分析结果表明N/C原子比为1.0~1.4,接近C3N4的化学比;X射线衍射谱说明薄膜主要由β和α-C3N4... 本文采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),高纯N2(99.999%)和CH4(99.9%)作反应气体,在多晶Pt(99.99%)基片上沉积C3N4薄膜。X-射线能谱(EDX)分析结果表明N/C原子比为1.0~1.4,接近C3N4的化学比;X射线衍射谱说明薄膜主要由β和α-C3N4组成;FT-IR谱和Raman谱支持C-N键的存在。 展开更多
关键词 微波等离子体 化学沉积 薄膜
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高频等离子体化学气相沉积法制氮化硅超细粉的工艺研究 被引量:6
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作者 洪若瑜 李洪钟 +1 位作者 李春忠 胡黎明 《化工冶金》 CSCD 北大核心 1996年第3期273-277,共5页
以Ar气为载气,SiCl4和NH3为原料,在高频等离子体化学气相沉积反应器中,制备了超细无定形的Si3N4粉未.该粉具有粒度小、粒径窄和分散均匀的特点,氮含量在36%以上.实验中发现,当SiCl4进料口在前,NH3进料口在后,且两个进料口均... 以Ar气为载气,SiCl4和NH3为原料,在高频等离子体化学气相沉积反应器中,制备了超细无定形的Si3N4粉未.该粉具有粒度小、粒径窄和分散均匀的特点,氮含量在36%以上.实验中发现,当SiCl4进料口在前,NH3进料口在后,且两个进料口均在高频等离子体尾焰处,经脱NH4Cl的产物中氮含量较高.而反应物NH3也不宜太过量,以NH3:SiCl4=8:1为好.Si3N4的晶型转变在1400“C下处理8h。 展开更多
关键词 超细粉 氮化硅 高频 等离子体 化学沉积
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微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积法制备多晶硅薄膜 被引量:2
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作者 左潇 魏钰 +2 位作者 陈龙威 舒兴胜 孟月东 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 2012年第4期356-361,共6页
利用微波电子回旋共振等离子体增强型化学气相沉积(ECR-PECVD)采用一步法直接在K9玻璃上低温沉积制备了多晶硅薄膜。研究了不同实验参数对薄膜沉积的影响,采用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电子显微镜(SEM)等实验分析方法对不同条件... 利用微波电子回旋共振等离子体增强型化学气相沉积(ECR-PECVD)采用一步法直接在K9玻璃上低温沉积制备了多晶硅薄膜。研究了不同实验参数对薄膜沉积的影响,采用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电子显微镜(SEM)等实验分析方法对不同条件下制备的样品进行了晶体结构和表面形貌分析,并讨论了多晶硅薄膜沉积的最佳条件。实验结果表明,玻璃衬底上多晶硅薄膜呈柱状生长,并有一定厚度的非晶孵化层;较高氢气比例和衬底温度有利于结晶,薄膜的结晶率达到了62%;晶粒团簇的最大尺寸约为500nm。 展开更多
关键词 电子回旋共振等离子体增强型化学沉积 低温 直接制备 多晶硅薄膜
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中频等离子体化学气相沉积法制备ZnO薄膜
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作者 黄兴奎 《中国西部科技(学术版)》 2007年第7期1-3,共3页
ZnO是一种多功能材料,目前处于世界范围的研究热潮中。为了拓展和改善ZnO的应用,采用中频等离子体化学气相沉积法(MF-PCVD)制备了ZnO薄膜,并研究了衬底温度对晶型和成膜速率的影响.
关键词 ZNO薄膜 中频等离子体化学沉积 村底温度
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等离子体化学气相沉积法制备致密性超浸润纳米硅氟薄膜 被引量:2
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作者 吕伟桃 毛静静 +3 位作者 梁宸 李嘉惠 莫德禧 元德侃 《有机硅材料》 CAS 2022年第1期11-16,共6页
以含氟丙烯酸酯功能单体和硅烷为原料、无水乙醇为溶剂、氩气为工艺气体,经等离子体化学气相沉积在表面绝缘阻抗(SIR)测试板和无尘布上制得硅氟薄膜。探讨了硅烷种类和用量、含氟单体用量对镀硅氟薄膜试件性能的影响。结果表明,采用γ-... 以含氟丙烯酸酯功能单体和硅烷为原料、无水乙醇为溶剂、氩气为工艺气体,经等离子体化学气相沉积在表面绝缘阻抗(SIR)测试板和无尘布上制得硅氟薄膜。探讨了硅烷种类和用量、含氟单体用量对镀硅氟薄膜试件性能的影响。结果表明,采用γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH 570)、γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH 550)和乙烯基三甲氧基硅烷(A171)的镀硅氟薄膜SIR测试板的静态水接触角分别为136.0°、135.6°和135.7°,摩擦200次后分别下降了7.5°、10.2°和11.9°,通电时间分别为30 min、5 min和3 min,表面粗糙程度逐渐降低;随着KH 570用量由0.2份增加到5份,镀硅氟薄膜SIR测试板的通电时间从8 min逐渐延长至33 min;随着含氟单体用量从78份升至93份,镀硅氟薄膜无尘布的静态水接触角从126°升至154°。硅烷选择KH 570较佳,KH 570的较佳用量为2份,含氟丙烯酸酯功能单体的较佳用量为90份,此时镀硅氟薄膜SIR测试板的静态水接触角为136.0°,通电时间为30 min。 展开更多
关键词 等离子体 化学沉积 硅烷 致密性 硅氟薄膜
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微波等离子体化学气相沉积法在硅片上同时生长碳化硅和金刚石 被引量:1
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作者 唐春玖 符连社 +4 位作者 A.J.S.Fernandes M.J.Soares Gil Cabral A.J.Neves J.Grácio 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期250-258,共9页
研究了衬底温度、核化密度、衬底表面预处理等工艺参数对微波等离子体化学气相沉积法在硅片上同时生长碳化硅和金刚石的影响。采用扫描电镜、X-射线衍射、喇曼光谱和红外光谱对样品进行了表征。结果表明:从高核化密度生长的金刚石膜中... 研究了衬底温度、核化密度、衬底表面预处理等工艺参数对微波等离子体化学气相沉积法在硅片上同时生长碳化硅和金刚石的影响。采用扫描电镜、X-射线衍射、喇曼光谱和红外光谱对样品进行了表征。结果表明:从高核化密度生长的金刚石膜中探测不到碳化硅;不论对硅衬底进行抛光预处理还是未抛光预处理,从低核化密度生长的金刚石厚膜中总能探测到碳化硅。碳化硅生长在硅衬底上未被金刚石覆盖的地方,或者是在金刚石晶核之间的空洞处。碳化硅形成和金刚石生长是同时发生的两个竞争过程。此研究结果为制备金刚石和碳化硅复合材料提供了一种新的方法。 展开更多
关键词 碳化硅 金刚石厚膜 红外光谱 微波等离子体化学沉积
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微波等离子体辅助化学气相沉积法低温合成定向碳纳米管阵列 被引量:19
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作者 陈新 胡征 +4 位作者 王喜章 吴强 陈懿 杨绍光 都有为 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期731-733,共3页
Well aligned nanotubes with diameter of 30—50 nm have been synthesized on a porous alumina template by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (MW PECVD). By this means, the control over either diameter o... Well aligned nanotubes with diameter of 30—50 nm have been synthesized on a porous alumina template by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (MW PECVD). By this means, the control over either diameter or length of the nanotubes could be realized. The hollow structure and vertically aligned features have been verified by scanning electron and transmission electron microscopic images. In comparison with the reported fabrication methods, lower synthesis temperature (below 520 ℃) and simpler process (no negative dc bias applied) have been achieved, which could be of great importance for both theoretical research and pratical applications. 展开更多
关键词 碳纳米管阵列 微波等离子体 化学沉积 低温合成 孔性氧化铝模板
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