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题名N等离子体基注渗方法研究
被引量:5
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作者
孙跃
董学军
夏立芳
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机构
哈尔滨工业大学材料科学与工程学院
沈阳真空技术研究所
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出处
《真空》
CAS
北大核心
2003年第3期33-37,共5页
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文摘
等离子体基注渗技术在材料表面改性中具有极为重要的应用,本文报道了一种实现恒温条件的N等离子体基注渗的工艺方法,利用该方法可以根据工艺研究需要,实现注渗剂量、注渗能量(加速电压)和注渗温度单一参数调节,为等离子体体基注渗工艺的优化提供了一种切实可行的研究方法。利用本文提出的工艺方法,对纯铁进行了各种温度下的N离子注渗。结果表明,处理过程中,可依据工艺设计,单参数大范围改变注渗电压或注渗恒温温度,温度波动很小,离子注入层厚度得到明显提高。
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关键词
等离子体基注渗技术
工艺
氮离子
离子注入
微观组织
表面改性
金属材料
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Keywords
ion implantation at elevated temperature
plasma
technology
microstructure
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分类号
TG174.444
[金属学及工艺—金属表面处理]
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