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N等离子体基注渗方法研究 被引量:5
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作者 孙跃 董学军 夏立芳 《真空》 CAS 北大核心 2003年第3期33-37,共5页
等离子体基注渗技术在材料表面改性中具有极为重要的应用,本文报道了一种实现恒温条件的N等离子体基注渗的工艺方法,利用该方法可以根据工艺研究需要,实现注渗剂量、注渗能量(加速电压)和注渗温度单一参数调节,为等离子体体基注渗工艺... 等离子体基注渗技术在材料表面改性中具有极为重要的应用,本文报道了一种实现恒温条件的N等离子体基注渗的工艺方法,利用该方法可以根据工艺研究需要,实现注渗剂量、注渗能量(加速电压)和注渗温度单一参数调节,为等离子体体基注渗工艺的优化提供了一种切实可行的研究方法。利用本文提出的工艺方法,对纯铁进行了各种温度下的N离子注渗。结果表明,处理过程中,可依据工艺设计,单参数大范围改变注渗电压或注渗恒温温度,温度波动很小,离子注入层厚度得到明显提高。 展开更多
关键词 等离子体基注渗技术 工艺 离子 离子 微观组织 表面改性 金属材料
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