等离子体弧源奥氏体不锈钢低温离子渗扩氮研究

采用低压等离子体弧源离子渗扩氮技术,在350～450℃之间对奥氏体不锈钢进行表面强化,可在表面形成2～15μm厚的含氮奥氏体过饱和层,即“γ_N”相。最大含氮量可达到40％(原子数分数)以上。显微硬度可达到HV_(0.1)1200以上,具有良好的抗蚀性,耐磨性。本工艺具有表面氮浓度高,渗速快,工件表面无弧光放电,表面光洁度好的特点。

低压等离子体弧源离子渗氮

利用低压等离子体弧源离子渗氮技术，在约４００ ℃、４ ×１０ － １ Ｐａ 真空度条件下对奥氏体不锈钢、纯铁进行了低温渗氮表面强化处理。奥氏体不锈钢表面形成的渗氮层由氮在奥氏体中的过饱和单相固溶体组成，具有很高的硬度和良好的耐蚀性。纯铁渗氮层则由化合物层和扩散层组成。

脉冲阴极弧金属等离子体源的调试及其应用

对脉冲阴极弧金属等离子体源的工作参数进行了测量,研究了离子流与磁导管偏压以及磁场电流与离子流之间的关系,确定了其最佳工作参数。并应用该脉冲阴极弧金属等离子体源和等离子体浸没离子注入与沉积技术制备了TiC薄膜。对改性层的显微硬度、摩擦磨损性能和膜基结合力进行了测试分析。结果表明:合成TiC薄膜后,试样的显微硬度、摩擦磨损性能得到了明显的改善,并且膜层与基体之间的临界载荷为36.03 N。

减少阴极弧金属等离子体源液滴的技术措施

液滴的存在并伴随着金属等离子体输运是阴极弧金属等离子体源的主要特性之一,液滴问题的严重性常常影响着阴极弧金属等离子体源广泛应用的可能性。文中针对如何减少液滴,提出了在阴极弧金属等离子体源物理和结构设计上采取的适当技术措施;然后在金属等离子体输运过程中,用正偏压的45°弯管(短磁导管)进行电磁过渡,使液滴减少到最少,使离子得到高效传输,最大限度地减少了液滴对被沉积薄膜性能的影响。

用于材料表面强化处理的第三代多功能PⅢ装置

第三代多功能等离子体浸没离子注入 (PIII)装置的强流脉冲阴极弧金属等离子体源既具有强的镀膜功能 ,同时也具有强的金属离子注入功能 ;它的脉冲高压电源能输出大的电流 ;并可获得高的注入剂量均匀性。该装置既能执行离子注入 ,又能把离子注入与溅射沉积 ,镀膜结合在一起 ,形成多种综合性表面改性工艺。本文描述了它的主要设计原则、主要部件的特性以及近期的研究工作成果。

透明陶瓷保护膜的研究

对黄铜基材装饰件表面先采用高能级磁控溅射离子镀 (专利号 :85 10 2 6 0 0 .1)技术镀不锈钢代替电镀钯 -镍合金 ,再采用等离子体型阴极弧源 -磁控溅射镀 (专利号 :ZL982 36 95 0 .6 )技术在不锈钢镀膜表面上镀制Ti N/ Au/透明陶瓷保护膜 Si O2 、Ti O2 。对其硬度。