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一种PDP扫描驱动芯片的HV-PMOS的研究和实现
1
作者
韩成功
郭清
+3 位作者
韩雁
张斌
张世峰
胡佳贤
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第3期436-440,共5页
对一种适用于106.68cm PDP扫描驱动IC的HV-PMOS器件进行了分析研究。通过使用TCAD软件对HV-PMOS进行了综合仿真,得到了器件性能最优时的结构参数及工艺参数。HV-PMOS器件及整体扫描驱动IC在杭州士兰集成电路公司完成流片。PCM(Process c...
对一种适用于106.68cm PDP扫描驱动IC的HV-PMOS器件进行了分析研究。通过使用TCAD软件对HV-PMOS进行了综合仿真,得到了器件性能最优时的结构参数及工艺参数。HV-PMOS器件及整体扫描驱动IC在杭州士兰集成电路公司完成流片。PCM(Process control module)片上的HV-PMOS击穿电压达到了185V,阈值为6.5V。整体扫描驱动芯片的击穿电压达到了180V,满足了设计要求。
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关键词
高压P沟道金属氧化物场效应晶体管
半导体工艺及器件模拟工具
等离子扫描驱动芯片
双极-互补金属氧化物场效应晶体管-双扩散金属氧化物场效应晶体管工艺
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职称材料
题名
一种PDP扫描驱动芯片的HV-PMOS的研究和实现
1
作者
韩成功
郭清
韩雁
张斌
张世峰
胡佳贤
机构
浙江大学微电子与光电子研究所
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第3期436-440,共5页
基金
浙江省科技计划资助项目(2004C31094)
文摘
对一种适用于106.68cm PDP扫描驱动IC的HV-PMOS器件进行了分析研究。通过使用TCAD软件对HV-PMOS进行了综合仿真,得到了器件性能最优时的结构参数及工艺参数。HV-PMOS器件及整体扫描驱动IC在杭州士兰集成电路公司完成流片。PCM(Process control module)片上的HV-PMOS击穿电压达到了185V,阈值为6.5V。整体扫描驱动芯片的击穿电压达到了180V,满足了设计要求。
关键词
高压P沟道金属氧化物场效应晶体管
半导体工艺及器件模拟工具
等离子扫描驱动芯片
双极-互补金属氧化物场效应晶体管-双扩散金属氧化物场效应晶体管工艺
Keywords
HV-PMOS
TCAD
PDP scan driver IC
BCD process
分类号
TN4 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一种PDP扫描驱动芯片的HV-PMOS的研究和实现
韩成功
郭清
韩雁
张斌
张世峰
胡佳贤
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2010
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