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APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺
被引量:
2
1
作者
闫凯
司阿利
《航空兵器》
2008年第2期35-38,共4页
阐述了APS等离子体离子辅助沉积(PIAD)在光学镀膜中的应用,通过分析APS等离子源辅助沉积过程中离子束的能量传递过程,讨论了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了APS等离子源辅助沉积薄膜工艺选择的准则。
关键词
离子
镀膜
薄膜工艺
等离子源辅助沉积
工艺参数
下载PDF
职称材料
题名
APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺
被引量:
2
1
作者
闫凯
司阿利
机构
中国空空导弹研究院
出处
《航空兵器》
2008年第2期35-38,共4页
文摘
阐述了APS等离子体离子辅助沉积(PIAD)在光学镀膜中的应用,通过分析APS等离子源辅助沉积过程中离子束的能量传递过程,讨论了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了APS等离子源辅助沉积薄膜工艺选择的准则。
关键词
离子
镀膜
薄膜工艺
等离子源辅助沉积
工艺参数
Keywords
ion film plating
thin film technology
plasma ion assisted deposition(PIAD)
technological parameter
分类号
TN205 [电子电信—物理电子学]
TJ760.5 [兵器科学与技术—武器系统与运用工程]
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职称材料
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作者
出处
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1
APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺
闫凯
司阿利
《航空兵器》
2008
2
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职称材料
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