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APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺 被引量:2
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作者 闫凯 司阿利 《航空兵器》 2008年第2期35-38,共4页
阐述了APS等离子体离子辅助沉积(PIAD)在光学镀膜中的应用,通过分析APS等离子源辅助沉积过程中离子束的能量传递过程,讨论了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了APS等离子源辅助沉积薄膜工艺选择的准则。
关键词 离子镀膜 薄膜工艺 等离子源辅助沉积 工艺参数
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