接近式光刻的计算机模拟研究

在接近式光刻中,衬底上的光强分布主要是受掩模与衬底间的间隙引起的衍射影响。一般的模拟分析中,都是利用菲涅尔近似模型进行分析。根据光的标量衍射理论,分析了菲涅尔近似模拟的误差起源,并对菲涅耳近似模型进行了修正,得到了更加准确的类菲涅耳近似模型,对这两种模型的模拟结果进行了比较。结果表明,即使在比较接近掩模表面或非傍轴条件下,类菲涅尔近似模型也能够得到比较精确的模拟结果。