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氢化非晶硅薄膜类TO模的喇曼特征 被引量:1
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作者 程光煦 陈坤基 +2 位作者 夏桦 张维 张杏奎 《南京大学学报(自然科学版)》 CSCD 1994年第3期444-450,共7页
文中给出了不同制备衬底温度(Ts)氢化非晶硅薄膜的喇曼谱,对类TO模(T—likemode)的喇曼峰位形变化特征及与之相应的物理结果给出了较详细的讨论:惯用描述Si-Si原子间互作用的莫尔斯(Morse)势,在α─S... 文中给出了不同制备衬底温度(Ts)氢化非晶硅薄膜的喇曼谱,对类TO模(T—likemode)的喇曼峰位形变化特征及与之相应的物理结果给出了较详细的讨论:惯用描述Si-Si原子间互作用的莫尔斯(Morse)势,在α─Si:H结构中已不再适用,需由Terosff势取代.此外,还简述了出现LO,LA振动模式的可能结构及其物理机制.最后,给出了新结构序参量C(非谐性势V(r)n=0,1,2,…中四次方项系数与三次方项系数之比)与结构间的关联.这些都进一步地揭示了氢化非晶硅膜结构的特征. 展开更多
关键词 氢化非晶硅 类to模 薄膜 散射谱
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